Pat
J-GLOBAL ID:201003087328770010
チタン化合物およびイミンの不斉シアノ化方法
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
速水 進治
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2010500884
Publication number (International publication number):2010522636
Application date: Sep. 28, 2007
Publication date: Jul. 08, 2010
Summary:
本発明は、水とチタンアルコキシドを接触させて得られる反応混合物を、下記一般式(a)(式中、R1、R2、R3、およびR4は、独立して水素原子、アルキル基などであり、A*は、不斉炭素原子または軸不斉を有する2つ以上の炭素原子を有する基を表す)で表わされる光学活性配位子と接触させることによって生成される、不斉合成反応のチタン触媒に関する。本発明はさらに、イミン類を不斉シアノ化する方法に関し、該方法はチタン触媒の存在下、イミンをシアノ化剤と反応させることを含む。【化1】【選択図】 図3
Claim (excerpt):
水とチタンアルコキシドとを接触させて得られる反応混合物を、下記一般式(a)で表わされる光学活性配位子と接触させることによって生成される、不斉合成反応に用いるチタン触媒。
IPC (8):
B01J 31/22
, C07C 255/43
, C07C 255/42
, C07C 255/24
, C07C 255/44
, C07C 271/22
, C07D 307/54
, C07C 253/00
FI (8):
B01J31/22 Z
, C07C255/43
, C07C255/42
, C07C255/24
, C07C255/44
, C07C271/22
, C07D307/54
, C07C253/00
F-Term (73):
4C037HA31
, 4G169AA06
, 4G169AA08
, 4G169AA09
, 4G169BA21A
, 4G169BA21B
, 4G169BA21C
, 4G169BA27A
, 4G169BA27B
, 4G169BC19A
, 4G169BC19B
, 4G169BC19C
, 4G169BD01C
, 4G169BD02C
, 4G169BE06A
, 4G169BE06B
, 4G169BE06C
, 4G169BE08A
, 4G169BE08C
, 4G169BE09A
, 4G169BE09C
, 4G169BE14A
, 4G169BE14B
, 4G169BE14C
, 4G169BE18A
, 4G169BE18C
, 4G169BE20A
, 4G169BE20C
, 4G169BE32A
, 4G169BE32C
, 4G169BE37A
, 4G169BE37B
, 4G169BE37C
, 4G169BE38A
, 4G169BE38C
, 4G169CB25
, 4G169CB57
, 4G169CB76
, 4G169FA01
, 4G169FB05
, 4G169FB77
, 4G169FC02
, 4H006AA01
, 4H006AA02
, 4H006AB40
, 4H006AC52
, 4H006AC54
, 4H006AC81
, 4H006BA10
, 4H006BA32
, 4H006BA34
, 4H006BA81
, 4H006BE06
, 4H006BJ50
, 4H006BN10
, 4H006BN30
, 4H006BP30
, 4H006BU32
, 4H006QN08
, 4H006RA06
, 4H006RB34
, 4H039CA71
, 4H039CF40
, 4H049VN05
, 4H049VP01
, 4H049VQ93
, 4H049VR43
, 4H049VR51
, 4H049VS21
, 4H049VT40
, 4H049VT48
, 4H049VU33
, 4H049VW02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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光学活性アルファ-アミノニトリルの新規な製造方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-501585
Applicant:アベンティス・クロップサイエンス・エス・アー
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光学活性シアノヒドリン誘導体の製造方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2010-500883
Applicant:エージェンシーフォーサイエンス,テクノロジーアンドリサーチ, 三井化学株式会社
Article cited by the Patent: