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J-GLOBAL ID：201102201211741282   Reference number：11A1489884

反応性パルスレーザーアブレーション法によるIn_0.9Ni_0.1TaO₄とNiO_Xの複合ナノ構造体の作製

Author (6)： MATSUMOTO KEIJI (甲南大 理工) ,  TOYOYAMA HIROKAZU (甲南大 理工) ,  TANAKA JUN (甲南大 理工) ,  UMEZU IKURO (甲南大 理工) ,  SUGIMURA AKIRA (甲南大 理工) ,  YOSHIDA TAKETO (阿南工高専)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
Volume： 72nd  Page： ROMBUNNO.1A-B-12  Publication year： Aug. 16, 2011 
JST Material Number： Y0055B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *laser ablation ,  promoter (catalysis) ,  photocatalyst ,  *Nanocomposites ,  *tantalate ,  indium compound ,  nickel compound ,  *nickel oxide ,  X-Ray Diffraction ,  scanning electron microscope ,  Nd-YAG laser ,  pulse laser ablation

JST classification (1)： Crystal growth of oxides  (BK13050I)

Terms in the title (4)： 反応性 ,  パルスレーザーアブレーション法 ,  ナノ構造体 ,  作製