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J-GLOBAL ID：201102223510561464   Reference number：11A0825831

The Effect of Substrate Temperature, Nitrogen Ionbeam Acceleration Voltage, and Deposition Rate on Hardness of Carbon Nitride Coating

CNx膜の硬さに及ぼす成膜時基板温度・窒素イオンビーム加速電圧・成膜速度の影響

Author (4)： TOKOROYAMA TAKAYUKI (名古屋大 大学院工学研究科) ,  SAITO RYOSUKE (名古屋大 大学院工学研究科) ,  UMEHARA NORITSUGU (名古屋大 大学院工学研究科) ,  FUWA YOSHIO (トヨタ自動車)
Material： 日本機械学会論文集 C編(Web)  (Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. Series C (Web))
Volume： 77  Issue： 775  Page： 624-630 (WEB ONLY)  Publication year： 2011 
JST Material Number： U0184A  ISSN： 1884-8354  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *carbon compound ,  *nitride ,  friction coefficient ,  nitrogen beam ,  electron beam deposition ,  ion irradiation ,  Raman spectrometry ,  nanoindentation
Semi thesaurus term： ion beam irradiation ,  *film formation ,  *CNx

JST classification (1)： Applications of electron beams and ion beams  (BD02070X)

Terms in the title (7)： 硬さ ,  成膜 ,  基板温度 ,  窒素イオン ,  ビーム ,  加速電圧 ,  成膜速度