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J-GLOBAL ID：201102224045565217   Reference number：11A1349912

Reworkable dimethacrylates with low shrinkage and their application to UV nanoimprint lithography

低収縮性の再生可能なメタクリル酸エステルおよびそれらのUVナノインプリントリソグラフィーへの応用

Author (3)： MATSUKAWA Daisaku (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  OKAMURA Haruyuki (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SHIRAI Masamitsu (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
Material： Journal of Materials Chemistry  (J Mater Chem)
Volume： 21  Issue： 28  Page： 10407-10414  Publication year： Jul. 28, 2011 
JST Material Number： W0204A  ISSN： 0959-9428  CODEN： JMACEP  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lithography ,  olefin compound ,  carboxylate (ester) ,  aliphatic carboxylic acid ,  unsaturated carboxylic acid ,  cycloalkane ,  bridged compound ,  alicyclic compound ,  *photoinitiator ,  photoacid generator ,  wafer ,  silica glass ,  ramming mix ,  patterning (transcription) ,  photocrosslinking ,  wavelength dependence ,  *photodissociation ,  Hydrolysis ,  shrinkage test ,  dimensional stability ,  photolithography ,  adamantane derivative ,  Si wafer ,  Cyclohexanes ,  Methacrylates
Semi thesaurus term： silicon substrate ,  Cyclohexanes ,  *nanoimprint lithography ,  ビスフェノールA誘導体 ,  methacrylate

JST classification (3)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Decomposition,deterioration,degradation of polymers  (CG03010A) ,  Photochemical reaction,radical reaction  (CF02090A)

Substance index (1)： 1,3-Adamantanedicarboxylic acid bis[2-[1-(methacryloyloxy)ethoxy]ethyl] ester

Terms in the title (4)： 収縮性 ,  メタクリル酸エステル ,  UVナノインプリントリソグラフィー ,  応用