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J-GLOBAL ID：201102254121522650   Reference number：11A0162007

Surface hydrophilization of SU-8 by plasma and wet chemical processes

プラズマおよびウエット化学プロセスによるSU-8の表面親水化

Author (9)： WALTHER Ferdinand (Ludwig-Maximilians-Univ. Muenchen, Munich, DEU) ,  DROBEK Tanja (Ludwig-Maximilians-Univ. Muenchen, Munich, DEU) ,  GIGLER Alexander M. (Ludwig-Maximilians-Univ. Muenchen, Munich, DEU) ,  HENNEMEYER Marc (Ludwig-Maximilians-Univ. Muenchen, Munich, DEU) ,  KAISER Michael (Munich Univ. Applied Sci., Munich, DEU) ,  HERBERG Helmut (Munich Univ. Applied Sci., Munich, DEU) ,  SHIMITSU Tetsuji (Max-Planck-Inst. extraterrestrische Physik, Garching, DEU) ,  MORFILL Gregor E. (Max-Planck-Inst. extraterrestrische Physik, Garching, DEU) ,  STARK Robert W. (Ludwig-Maximilians-Univ. Muenchen, Munich, DEU)
Material： Surface and Interface Analysis  (SIA)
Volume： 42  Issue： 12/13  Page： 1735-1744  Publication year： Dec. 2010 
JST Material Number： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma treatment ,  *wet method ,  *photoresist ,  *chemical machining ,  *surface modification ,  ammonium compound ,  nitrate ,  cerium compound ,  etching ,  atomic force microscope ,  topography ,  hydrophilicity ,  polyethylene oxide ,  Polylysine ,  X-ray photoelectron spectroscopy ,  *hydrophilization ,  *photoresist SU-8
Semi thesaurus term： *SU-8 ,  chemical etching

JST classification (2)： Solid-liquid interface  (CB12050B) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： プラズマ ,  化学プロセス ,  SU-8 ,  表面親水化