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J-GLOBAL ID：201102259514940804   Reference number：11A1110449

Hydrogenated amorphous carbon and carbon nitride films deposited at low pressure by plasma enhanced chemical vapor deposition

プラズマ化学気相蒸着による低圧での水素化非晶質炭素及び炭窒化物膜の合成

Author (3)： MIYAJIMA Y. ,  HENLEY S.j. ,  SILVA S.r.p.
Material： Thin Solid Films
Volume： 519  Issue： 19  Page： 6374-6380  Publication year： Jul. 29, 2011 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： nitride ,  characterization ,  Raman spectrum ,  *carbon compound ,  refractive index ,  optical gap ,  amorphous state ,  multiple scattering ,  *plasma CVD ,  evaporated film ,  hydride

JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (7)： プラズマ化学 ,  気相蒸着 ,  低圧 ,  水素化 ,  非晶質炭素 ,  炭 ,  窒化物膜