Art

J-GLOBAL ID：201102261480503668   Reference number：11A1249935

Meso-scale simulation of the line-edge structure based on resist polymer molecules by negative-tone process

ネガ型トーンプロセスによるレジストポリマ分子系線端構造のメソスケールシミュレーション

Author (1)： MORITA Hiroshi (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 7972  Issue： Pt.1  Page： 79720W.1-79720W.7  Publication year： 2011 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： medium scale ,  *simulation model ,  *surface roughness ,  *dynamics ,  polymer chain ,  *circuit pattern generation ,  high-resolution ,  pitch(machine element) ,  exposure(photography) ,  crosslinking ,  *resist ,  *dissipation ,  *particle
Semi thesaurus term： LER ,  negative resist ,  mesoscopic scale ,  dissipative particle dynamics

JST classification (1)： Materials of solid-state devices  (NC03020K)

Terms in the title (6)： ネガ ,  トーン ,  プロセス ,  レジスト ,  ポリマ ,  分子系