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J-GLOBAL ID：201102291160198308   Reference number：11A1191070

レーザー干渉加工を用いた紫外分布帰還レーザー開発

Author (4)： ONO SHINGO (名古屋工大) ,  NAKAZATO TOMOHARU (大阪大 レーザーエネルギー学研究セ) ,  SHIMIZU TOSHIHIKO (大阪大 レーザーエネルギー学研究セ) ,  SARUKURA NOBUHIKO (大阪大 レーザーエネルギー学研究セ)
Material： 大阪大学レーザーエネルギー学研究センター共同利用・共同研究成果報告書  (ILE Annual Report of Collaborative Research)
Volume： 2010  Page： 167-168  Publication year： Mar. 31, 2011 
JST Material Number： J0876A  Document type： Article
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (5)： レーザー干渉 ,  分布 ,  帰還 ,  レーザー ,  開発