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J-GLOBAL ID：201103009037974332

材料膜の製造方法及び製造装置

Inventor： 笠間 泰彦 ,  表 研次 ,  工藤 昇
Applicant, Patent owner： 金子 博之
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011152654
Publication number (International publication number)：2011246819
Application date： Jul. 11, 2011
Publication date： Dec. 08, 2011
Summary：

【課題】フラーレンの六員環よりも大きな原子を内包する内包フラーレンの製造において、内包フラーレンの形成確率が高い製造方法を提供する。【解決手段】内包イオンの照射と同時に、直径と質量が大きいイオンをフラーレン膜に照射する。質量が大きいイオンがフラーレン分子17に衝突するため、フラーレン分子17が大きく変形し、フラーレン分子17の開口部が大きくなり、内包イオンがフラーレン分子17のケージの中に入る確率が高くなる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

注入イオンを含むプラズマを発生させ、前記プラズマに接触する電位体に制御電圧を印加して前記注入イオンの密度を制御し、均一磁場により前記プラズマを輸送し、前記プラズマを堆積基板に向けて照射し、前記注入イオンと反対の極性のバイアス電圧を前記堆積基板に印加して前記注入イオンに加速エネルギーを与え、材料膜に前記注入イオンを注入することを特徴とする材料膜の製造方法。

IPC (4)：

C23C 14/48 ,  C23C 14/32 ,  C01B 31/02 ,  H01J 37/32

FI (4)：

C23C14/48 Z ,  C23C14/32 Z ,  C01B31/02 101F ,  H01J37/32

F-Term (23)：

4G146AA08 ,  4G146AA11 ,  4G146AA16 ,  4G146AB07 ,  4G146AD17 ,  4G146CB16 ,  4G146CB17 ,  4G146CB19 ,  4G146CB34 ,  4G146DA16 ,  4G146DA23 ,  4G146DA26 ,  4G146DA33 ,  4G146DA34 ,  4K029AA04 ,  4K029BA34 ,  4K029CA01 ,  4K029CA03 ,  4K029CA10 ,  4K029CA13 ,  4K029DA03 ,  4K029DE02 ,  4K029DE04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特願2004-001362
  

Cited by examiner (1)

• 窒素注入C60フラーレン薄膜およびその作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-243523   Applicant：科学技術振興事業団

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 異極性イオンプラズマによる新規カーボンナノチューブ創製