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J-GLOBAL ID：201103015142856167
光波面測定方法および装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2006171246
Publication number (International publication number)：2008002881
Patent number：4649663
Application date： Jun. 21, 2006
Publication date： Jan. 10, 2008
Claim (excerpt)：
【請求項1】 2枚以上の鏡から構成されるファブリ・ペロ干渉計に光を入射させて入射光とし、前記入射光のうち前記ファブリ・ペロ干渉計の最低次の空間モードと共振する成分を透過させて透過光とし、前記ファブリ・ペロ干渉計と共振せず反射された収差を含む空間成分を反射光とし、前記透過光と前記反射光を干渉させることで収差の情報を含む干渉縞を形成させて前記入射光の波面の収差を検出する構成であることを特徴とする光波面測定装置。
IPC (1)：
FI (1)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
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位相シフト干渉分析の方法及びシステム
Gazette classification：公表公報
Application number：特願2003-551476
Applicant：ザイゴコーポレーション
Article cited by the Patent：
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