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J-GLOBAL ID：200903040767277773

位相シフト干渉分析の方法及びシステム

Inventor：
デック、レスリー エル.

About デック、レスリー エル.


Applicant, Patent owner：
ザイゴ コーポレーション

About ザイゴ コーポレーション


Agent (2)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003551476
Publication number (International publication number)：2005512075
Application date： Dec. 04, 2002
Publication date： Apr. 28, 2005
Summary：
干渉分析方法は、i)複数の表面(109)から反射される光学波面(140)の異なる部分を合成することにより光学干渉画像を形成すること、ii)異なる光路分離を有する複数の表面の対が干渉信号に異なる影響を生じさせる光学波面の特性の変化に応じて、光学干渉画像の異なる位置における干渉信号を記録すること(170)、iii)少なくとも一つの位置についての干渉信号を変換して、複数の表面の各対に対応してスペクトル座標においてピークを有するスペクトルを生成すること(180)、及びiv)複数の表面の選択された対に対応するピークのスペクトル座標を認識すること(190)を含む。
Claim (excerpt)：
干渉分析方法であって、 複数の表面から反射される光学波面の異なる部分を合成することにより光学干渉画像を形成すること、 異なる光路分離を有する複数の表面の対が干渉信号に異なる影響を生じさせる光学波面の特性の変化に応じて、前記光学干渉画像の異なる位置における干渉信号を記録すること、 少なくとも一つの位置の干渉信号を変換して、複数の表面の各対に対応するスペクトル座標においてピークを有するスペクトルを生成すること、 前記複数の表面の選択された対に対応するピークのスペクトル座標を認識することを備える干渉分析方法。
IPC (11)：
G01B11/24 ,  G01B9/02 ,  G01B11/02 ,  G01J3/45 ,  G01J9/02 ,  G01J9/04 ,  G01M11/00 ,  G01N21/19 ,  G01N21/21 ,  G01N21/45 ,  G01N21/958
FI (11)：
G01B11/24 D ,  G01B9/02 ,  G01B11/02 G ,  G01J3/45 ,  G01J9/02 ,  G01J9/04 ,  G01M11/00 T ,  G01N21/19 ,  G01N21/21 Z ,  G01N21/45 A ,  G01N21/958
F-Term (94)：
2F064AA09 ,  2F064EE01 ,  2F064EE02 ,  2F064EE04 ,  2F064EE05 ,  2F064EE06 ,  2F064EE10 ,  2F064FF02 ,  2F064FF03 ,  2F064GG12 ,  2F064GG16 ,  2F064GG22 ,  2F064GG23 ,  2F064GG32 ,  2F064GG38 ,  2F064GG55 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2F064JJ04 ,  2F064JJ15 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065BB22 ,  2F065CC22 ,  2F065FF52 ,  2F065FF53 ,  2F065GG06 ,  2F065GG24 ,  2F065HH03 ,  2F065HH10 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL12 ,  2F065LL17 ,  2F065LL33 ,  2F065LL34 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065LL46 ,  2F065NN05 ,  2F065NN06 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ44 ,  2F065RR07 ,  2F065SS13 ,  2F065UU05 ,  2F065UU07 ,  2G020BA02 ,  2G020BA15 ,  2G020CA12 ,  2G020CB05 ,  2G020CB23 ,  2G020CC22 ,  2G020CC47 ,  2G020CC63 ,  2G020CD03 ,  2G020CD12 ,  2G020CD16 ,  2G020CD24 ,  2G020CD35 ,  2G020CD51 ,  2G051AA90 ,  2G051AB06 ,  2G051AB20 ,  2G051BA10 ,  2G051BB11 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB10 ,  2G051CC15 ,  2G051EA12 ,  2G051EA17 ,  2G051EC04 ,  2G059AA02 ,  2G059AA03 ,  2G059BB08 ,  2G059EE05 ,  2G059EE09 ,  2G059EE10 ,  2G059EE12 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM04 ,  2G086EE07 ,  2G086EE08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 縞解析における縞位相決定方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-084183   Applicant：富士写真光機株式会社
  • 光計測装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-239883   Applicant：科学技術振興事業団
Cited by examiner (3)

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