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J-GLOBAL ID:201103025491764488

触媒の製造方法および触媒

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 吉田 研二 ,  石田 純
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2002049349
Publication number (International publication number):2003245563
Patent number:4185694
Application date: Feb. 26, 2002
Publication date: Sep. 02, 2003
Claim (excerpt):
【請求項1】 所定のエネルギーをターゲットに印加することで、ターゲットを構成する白金の原子および/または原子イオンを放出させ、 放出された原子および/または原子イオンを凝集してクラスターとし、 このクラスターを質量フィルタによってフィルタリングし、所定サイズのクラスターを選択し、 選択された白金のクラスターが5乃至500eVの中の所定のエネルギーで基体に衝突され、基体上に直接デポジットされることで、基体上に1原子層の膜状にデポジットされる触媒の製造方法。
IPC (9):
B01J 37/02 ( 200 6.01) ,  B01J 37/34 ( 200 6.01) ,  B01J 23/42 ( 200 6.01) ,  C01B 3/26 ( 200 6.01) ,  C23C 14/14 ( 200 6.01) ,  C23C 14/34 ( 200 6.01) ,  H01M 4/88 ( 200 6.01) ,  H01M 4/92 ( 200 6.01) ,  H01M 8/10 ( 200 6.01)
FI (10):
B01J 37/02 301 P ,  B01J 37/34 ,  B01J 23/42 M ,  C01B 3/26 ,  C23C 14/14 D ,  C23C 14/34 S ,  H01M 4/88 C ,  H01M 4/88 K ,  H01M 4/92 ,  H01M 8/10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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