オゾンガスに含まれる窒素酸化物および水分の除去方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江正二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009279865
Publication number (International publication number)：2011121805
Application date： Dec. 09, 2009
Publication date： Jun. 23, 2011
Summary：

【課題】吸着剤に含有される金属がオゾンと反応することによるオゾン濃度の減少。【解決手段】原料として酸素ガスに窒素ガスを数%未満添加したガスを使用して生成したオゾンガスを吸着剤としてシリカゲル7を充填した除去筒8に導入して、オゾンを飽和吸着させ、その後二酸化窒素をシリカゲルに吸着除去しながら、シリカゲル表面に吸着されたオゾンを低次の窒素酸化物と反応させることによって、より吸着性の高い二酸化窒素として捕捉する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

原料として酸素ガスに窒素ガスを数%未満添加したガスを使用し、放電式オゾン発生装置で生成したオゾンガスを、吸着剤としてシリカゲル(7)を充填した除去筒(8)に導入し、予めシリカゲル(7)の表面に飽和状態までオゾン吸着させた後、シリカゲル(7)で二酸化窒素を吸着除去しつつ、低次の窒素酸化物をシリカゲル(7)表面に吸着されたオゾンと反応させることによって二酸化窒素として捕捉するように構成したことを特徴とするオゾンガスに含まれる窒素酸化物および水分の除去方法。

IPC (5)：

C01B 13/11 , B01D 53/04 , B01D 53/02 , B01D 53/28 , B01D 53/26

FI (5)：

C01B13/11 Z , B01D53/04 C , B01D53/02 Z , B01D53/28 , B01D53/26 101C

F-Term (19)：

4D012BA01 , 4D012CA01 , 4D012CA20 , 4D012CB12 , 4D012CD10 , 4D012CE03 , 4D012CF08 , 4D012CG01 , 4D012CH10 , 4D012CJ10 , 4D052AA02 , 4D052CC04 , 4D052DA03 , 4D052DB01 , 4D052GA04 , 4D052GB11 , 4D052HA01 , 4G042CA01 , 4G042CB15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開昭53-113295
放電式オゾンガス生成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-281731 Applicant：岩谷産業株式会社
オゾンの取出方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-004391 Applicant：岩谷産業株式会社

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