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J-GLOBAL ID:201103034193421151
単結晶窒化ケイ素ナノシートとその製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (11):
社本 一夫
, 小野 新次郎
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 桜井 周矩
, 神田 藤博
, 田中 英夫
, 細川 伸哉
, 深澤 憲広
, 平山 晃二
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2004352353
Publication number (International publication number):2006160548
Patent number:4572382
Application date: Dec. 06, 2004
Publication date: Jun. 22, 2006
Claim (excerpt):
【請求項1】 出発原料としてケイ素粉末を用い、窒素雰囲気中で非密封状態の容器中に入れ、1300°C〜1400°C(ケイ素粉末の溶融点以下)の温度及び電気炉内断面積が25cm2あたり0.5l/min以上の窒素ガス流量で、30時間反応させて、1μm×1μm以上で厚みが20nm以下の単結晶窒化ケイ素ナノシートを製造する方法。
IPC (1):
FI (1):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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特開昭63-151603
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特開昭61-266305
-
特開平1-201012
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窒化ケイ素粉末の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-034382
Applicant:信越化学工業株式会社
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高純度窒化ケイ素粉末の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-307169
Applicant:電気化学工業株式会社
-
特公昭55-050882
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