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J-GLOBAL ID:201103034193421151

単結晶窒化ケイ素ナノシートとその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (11): 社本 一夫 ,  小野 新次郎 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  桜井 周矩 ,  神田 藤博 ,  田中 英夫 ,  細川 伸哉 ,  深澤 憲広 ,  平山 晃二
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2004352353
Publication number (International publication number):2006160548
Patent number:4572382
Application date: Dec. 06, 2004
Publication date: Jun. 22, 2006
Claim (excerpt):
【請求項1】 出発原料としてケイ素粉末を用い、窒素雰囲気中で非密封状態の容器中に入れ、1300°C〜1400°C(ケイ素粉末の溶融点以下)の温度及び電気炉内断面積が25cm2あたり0.5l/min以上の窒素ガス流量で、30時間反応させて、1μm×1μm以上で厚みが20nm以下の単結晶窒化ケイ素ナノシートを製造する方法。
IPC (1):
C01B 21/068 ( 200 6.01)
FI (1):
C01B 21/068 D
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • 特開昭63-151603
  • 特開昭61-266305
  • 特開平1-201012
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