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J-GLOBAL ID：201103035534425777

溶存酸素濃度の制御方法

Inventor： 中島 啓光 ,  森 利之 ,  渡辺 遵
Applicant, Patent owner： 独立行政法人物質・材料研究機構
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2003022849
Publication number (International publication number)：2004230303
Patent number：3950966
Application date： Jan. 30, 2003
Publication date： Aug. 19, 2004
Claim (excerpt)：

【請求項1】 pH4〜8の液中に二酸化チタンを分散させ、光照射により溶存酸素濃度を減少させ、光照射を止めることで溶存酸素濃度を安定させることを特徴とする溶存酸素濃度の制御方法。

IPC (2)：

C02F 1/20 ( 200 6.01) ,  C02F 1/30 ( 200 6.01)

FI (2)：

C02F 1/20 Z ,  C02F 1/30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-305290
  
• 脱酸素処理方法及び脱酸素処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-350525   Applicant：栗田工業株式会社
• 脱酸素方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-196825   Applicant：栗田工業株式会社