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J-GLOBAL ID：201103045022605264

かご型シルセスキオキサン(POSS)及び親水性コモノマーから作成されたポリマー膜

Inventor：
ヤンヘ・ナ

About ヤンヘ・ナ

, 
ラトナム・スーリヤクマラン

About ラトナム・スーリヤクマラン

, 
ロバート・デービッド・アレン

About ロバート・デービッド・アレン


Applicant, Patent owner：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

About インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション


Agent (3)： 上野 剛史 ,  太佐 種一 ,  市位 嘉宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010247449
Publication number (International publication number)：2011110552
Application date： Nov. 04, 2010
Publication date： Jun. 09, 2011
Summary：
【課題】 かご型シルセスキオキサン(POSS)及び親水性コモノマーから作成されるポリマー膜を提供する。【解決手段】 複合膜は、ろ過膜、及びろ過膜の表面上の層を含む。この層は、少なくとも1つの頂点に結合した親水性部分を有するかご型シルセスキオキサン(POSS)誘導体を含んだポリマーを含む。複合膜を作成する方法は、ろ過膜の表面に、POSS化合物、親水性コモノマー、及び光開始剤を含んだ光重合可能組成物を塗布するステップを含む。この組成物を硬化させてろ過膜のうえに親水性層を形成する。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
ろ過膜と、該ろ過膜の表面上の層とを含み、 前記層は、少なくとも1つの頂点に結合した親水性部分を有するかご型シルセスキオキサン(POSS)誘導体を含むポリマーを含む、 複合膜。
IPC (8)：
B01D 71/70 ,  C08F 230/08 ,  C08F 220/00 ,  C08F 290/06 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/40 ,  B01D 71/78 ,  B01D 71/38
FI (8)：
B01D71/70 ,  C08F230/08 ,  C08F220/00 ,  C08F290/06 ,  B01D69/12 ,  B01D71/40 ,  B01D71/78 ,  B01D71/38
F-Term (56)：
4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA41 ,  4D006MA03 ,  4D006MA10 ,  4D006MB02 ,  4D006MB05 ,  4D006MB09 ,  4D006MB19 ,  4D006MC32X ,  4D006MC36 ,  4D006MC37X ,  4D006MC45X ,  4D006MC62X ,  4D006MC65X ,  4D006MC82 ,  4D006NA42 ,  4D006NA46 ,  4D006PA01 ,  4D006PA05 ,  4D006PB52 ,  4D006PB59 ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL09Q ,  4J100AL66Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA09Q ,  4J100BA81P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100JA15 ,  4J127AA05 ,  4J127AA06 ,  4J127BB021 ,  4J127BB101 ,  4J127BB221 ,  4J127BC021 ,  4J127BC151 ,  4J127BD221 ,  4J127BE34Y ,  4J127BE341 ,  4J127BF18Y ,  4J127BF181 ,  4J127BG10Y ,  4J127BG101 ,  4J127BG14Y ,  4J127BG141 ,  4J127BG17Y ,  4J127BG171 ,  4J127CB151 ,  4J127CC371 ,  4J127DA57 ,  4J127FA00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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