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J-GLOBAL ID:201103048306059188
水処理装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (3):
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009192298
Publication number (International publication number):2011041914
Application date: Aug. 21, 2009
Publication date: Mar. 03, 2011
Summary:
【課題】水処理性能を向上し、信頼性の高い水処理装置を提供する。【解決手段】本発明の水処理装置は、通水管路1a、ノズル1b、および放電部1cを形成する高圧側電極1dと接地側電極1eを備えるリアクター1と、高圧側電極1dと接地側電極1eに接続した高電圧電源2を有し、被処理水3を一定の圧力で送給し微小キャビテーション気泡を発生させこれに放電プラズマを形成させて、被処理水中に含有する有機物等の被処理物質の分解や合成等の処理を行うもので、リアクター1のノズル1bの後段に、高圧側電極1dと接地側電極1eをそれぞれ逆方向から中心部に向けて挿入し、一定間隔をおいて平行に設置するとともに、各々の電極の先端部を管路断面の中心部まで突出させて配置する構成にしたものである。【選択図】図1
Claim (excerpt):
被処理水を通過させる通水管路にノズルと対向電極を備えたリアクターからなる水処理装置であって、
前記ノズルは、オリフィス形状を有し、前記リアクター内の通水方向上流側に設けられており、前記被処理水が前記オリフィスの最収縮部を通過直後、圧力が降下した領域において、沸騰現象によりキャビテーションを発生させ、
前記対向電極は、高圧側電極と接地側電極が対向して成り、前記ノズルの下流側の前記キャビテーションが発生する空間に設けられており、前記対向電極間に高電圧を印加することにより、前記キャビテーションが発生する空間に放電プラズマを形成する水処理装置において、
前記高圧側電極と前記接地側電極は通水方向に互いに間隔をおいて設置されていることを特徴とする水処理装置。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (36):
4D037AA02
, 4D037AA05
, 4D037AA06
, 4D037AA09
, 4D037AA11
, 4D037AB03
, 4D037AB05
, 4D037AB06
, 4D037AB12
, 4D037AB14
, 4D037AB16
, 4D037BA26
, 4D037CA04
, 4D061DA02
, 4D061DA03
, 4D061DA04
, 4D061DA07
, 4D061DA08
, 4D061DA09
, 4D061DB19
, 4D061DC01
, 4D061DC03
, 4D061DC09
, 4D061DC15
, 4D061EA15
, 4D061EB01
, 4D061EB04
, 4D061EB18
, 4D061EB19
, 4D061EB20
, 4D061EB28
, 4D061EB29
, 4D061EB31
, 4D061EB39
, 4D061ED20
, 4D061GC20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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水処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-295240
Applicant:株式会社安川電機, 国立大学法人佐賀大学
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