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J-GLOBAL ID:201103050774816934

炉内環境模擬方法および炉内環境模擬装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 須田 篤 ,  楠 修二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010003621
Publication number (International publication number):2011145075
Application date: Jan. 12, 2010
Publication date: Jul. 28, 2011
Summary:
【課題】過酸化水素の発生前後の原子炉内の水環境を模擬することができ、原子炉の構成材料の評価を高精度で行うことができる炉内環境模擬方法および炉内環境模擬装置を提供する。【解決手段】高温高圧容器11が、内部に液体を収容し、その液体を高温高圧に保つ。ラジカル発生手段12が、液体中に超音波を照射可能に設けられた超音波発生装置、または、液体中に高圧水を噴射可能に設けられた噴射装置51から成る。ラジカル発生手段12は、高温高圧容器11の内部の液体中にOHラジカルを発生可能である。画像取得手段13が、高温高圧容器11の内部の画像を取得する。解析部14が、画像取得手段13で取得された画像に基づいて、液体中の発光の位置と強度とを測定し、測定された発光の位置と強度とに基づいて、液体中でのOHラジカルの発生位置と濃度とを求めるよう構成されている。【選択図】図1
Claim (excerpt):
高温高圧の液体中にOHラジカルを発生させることを、特徴とする炉内環境模擬方法。
IPC (5):
G21C 17/00 ,  G21C 17/02 ,  G21D 1/00 ,  G21D 3/08 ,  G01N 21/70
FI (5):
G21C17/00 R ,  G21C17/02 F ,  G21D1/00 X ,  G21D3/08 G ,  G01N21/70
F-Term (15):
2G043AA01 ,  2G043CA03 ,  2G043DA08 ,  2G043EA06 ,  2G043FA01 ,  2G043GA07 ,  2G043GB07 ,  2G043GB08 ,  2G043LA02 ,  2G043LA03 ,  2G075AA03 ,  2G075AA05 ,  2G075DA14 ,  2G075DA16 ,  2G075FA08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
  • 特開昭58-160858
  • 特開昭61-107150
  • 特開昭63-151900
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