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J-GLOBAL ID:201103054508536263
微細炭素質材料を含む金属被膜の形成方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人ウィンテック
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010028251
Publication number (International publication number):2011162856
Application date: Feb. 10, 2010
Publication date: Aug. 25, 2011
Summary:
【課題】ナノメーターサイズの微細炭素質材料が均一に分散された金属被膜の形成方法を提供すること。【解決手段】微細炭素質材料が分散されているメッキ液を用い、被メッキ物の表面に、微細炭素質材料が分散された金属被膜をメッキする金属被膜の形成方法において、前記メッキ液中に界面活性剤を添加すると共に、二酸化炭素及び不活性ガスの少なくとも一方を供給し、前記二酸化炭素及び不活性ガスの少なくとも一方が超臨界状態又は亜臨界状態となるようにしてメッキを行う。本発明の金属被膜の形成方法は、電気メッキ方法及び化学メッキ方法の何れにも適用できる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
微細炭素質材料が分散されているメッキ液を用い、被メッキ物の表面に、微細炭素質材料が分散された金属被膜をメッキする金属被膜の形成方法において、
前記メッキ液中に界面活性剤を添加すると共に、二酸化炭素及び不活性ガスの少なくとも一方を供給し、前記二酸化炭素及び不活性ガスの少なくとも一方が超臨界状態又は亜臨界状態となるようにしてメッキを行うことを特徴とする金属被膜の形成方法。
IPC (4):
C25D 15/02
, C23C 18/52
, C25D 21/12
, B32B 15/01
FI (5):
C25D15/02 F
, C23C18/52 A
, C25D21/12 A
, C25D15/02 A
, B32B15/01 K
F-Term (24):
4F100AA37B
, 4F100AB01B
, 4F100AB17
, 4F100AB31
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100CA18B
, 4F100DE01B
, 4F100EH71B
, 4F100EJ60B
, 4F100JK09
, 4F100JK16
, 4F100JM01B
, 4K022AA02
, 4K022BA05
, 4K022BA14
, 4K022BA16
, 4K022BA34
, 4K022CA06
, 4K022CA18
, 4K022CA21
, 4K022DA01
, 4K022DB11
, 4K022DB30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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電気めっき方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-009151
Applicant:エス・イー・エス株式会社, 宮田清蔵
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マトリックス内の摩擦を高める粒子で被覆された部材表面、及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-291247
Applicant:ワツカー-ケミーゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツング
-
共析めっき方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-186884
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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