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J-GLOBAL ID：201103058137256098

化学励起沃素レーザ装置

Inventor： 藤岡 知夫 ,  遠藤 雅守 ,  大貫 勝弘
Applicant, Patent owner： 財団法人応用光学研究所
Agent (3)： 役 昌明 ,  林 紘樹 ,  役 学
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2000148658
Publication number (International publication number)：2001332790
Patent number：4475739
Application date： May. 19, 2000
Publication date： Nov. 30, 2001
Claim (excerpt)：

【請求項1】励起酸素発生器と、該励起酸素発生器で発生した励起酸素に沃素ガスを混合する沃素ガス混合器と、沃素ガスを混合した励起酸素を導入する活性領域に配置されたレーザ発振部とを具備する化学励起沃素レーザ装置において、上記励起酸素発生器は、塩素ガスを供給される反応室と、該反応室内へ過酸化水素水とアルカリとの混合液を微細化して供給する噴霧ノズルとを備え、前記噴霧ノズルは、酸素を含まない窒素やアルゴンなどのガスを下向きに吹き込む孔と、過酸化水素水とアルカリとの混合液を偏心して吹き込む2つの孔と、噴出孔とを有する旋回噴霧ノズルであり、上記反応室において過酸化水素水とアルカリとの混合液を塩素ガスと反応させて励起酸素を発生することを特徴とする化学励起沃素レーザ装置。

IPC (1)：

H01S 3/095 ( 200 6.01)

FI (1)：

H01S 3/095 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-011532
  
• 特開昭62-125685
  
• 特開昭53-141167