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J-GLOBAL ID：201103058883218657

プラズマ処理装置及び外気遮断容器

Inventor： 大見 忠弘 ,  松岡 孝明
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東北大学 ,  東京エレクトロン株式会社
Agent (3)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007288021
Publication number (International publication number)：2011040416
Application date： Nov. 06, 2007
Publication date： Feb. 24, 2011
Summary：

【課題】容器が加熱された場合でも、装置内の雰囲気の気密性を保持することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】処理容器2の容器突出部2aと蓋体3の蓋体突出部3aとの接触面には、Oリング4、5が環状に二重に設けられている。容器突出部2aには、Oリング4、5の間に形成された隙間6に、不活性ガスを流入させるためのガス流入口7と、その不活性ガスを隙間6から流出させるためのガス流出口8が形成されている。ガス流入口7とガス流出口8は、対向して形成されている。ガス流入口7から流入した不活性ガスは流出口8に向かって流れ、隙間6内に充満する。この隙間6内に充満した不活性ガスの層によって、処理容器2内の気密性が保持される。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

基板にプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、 上部が開口し、基板を収容して処理する処理容器と、 前記処理容器の上方を塞ぐ蓋体と、 前記処理容器の側壁上面と前記蓋体の下面周辺部との接触面に環状に設けられ、前記処理容器内の気密性を保持するためのシール材と、を有し、 前記シール材は、前記接触面における内側と外側に二重に設けられ、 前記処理容器の側壁上面には、 前記接触面において前記内側のシール材と外側のシール材との間に形成された隙間に不活性ガスを流入させるガス流入口と、当該不活性ガスを流出させるガス流出口と、が形成されていることを特徴とする、プラズマ処理装置。

IPC (5)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/44 ,  C23C 16/50 ,  H05H 1/46

FI (5)：

H01L21/205 ,  H01L21/302 101G ,  C23C16/44 B ,  C23C16/50 ,  H05H1/46 B

F-Term (24)：

4K030AA06 ,  4K030AA17 ,  4K030BA30 ,  4K030FA01 ,  4K030KA10 ,  4K030LA15 ,  4K030LA18 ,  5F004AA15 ,  5F004BA04 ,  5F004BB14 ,  5F004BB18 ,  5F004BC01 ,  5F004BD04 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AC16 ,  5F045AD06 ,  5F045AE19 ,  5F045AF01 ,  5F045BB14 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EB10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• プラズマ処理装置と方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-067835   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 国立大学法人東北大学