浄水膜ろ過監視制御システム

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (18)：蔵田昌俊 , 河野哲 , 中村誠 , 福原淑弘 , 峰隆司 , 白根俊郎 , 村松貞男 , 野河信久 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 勝村紘 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓 , 市原卓三 , 山下元
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010058125
Publication number (International publication number)：2011189287
Application date： Mar. 15, 2010
Publication date： Sep. 29, 2011
Summary：

【課題】設計仕様や運転条件を事前にシミュレーションして、全体システムを効率的に設計・運転することを課題とする。【解決手段】水中の濁質分を分離除去する浄水膜ろ過監視制御システムにおいて、原水が供給される供給水槽1と、供給水槽に凝集剤を注入する凝集剤注入装置と、供給水槽に活性炭を注入する活性炭注入装置8と、供給水槽の下流側に配置された,前処理水をろ過する膜モジュール11と、膜モジュールの下流側に配置された処理水槽と、膜モジュールに温水を供給する温水供給装置14と、原水の吸光度を計測する吸光度計5と、供給水槽から膜モジュールに供給される原水の電流を計測する電流計測計9と、流動計測計,凝集剤注入装置に電気的に接続され、電流計測計で計測されるオンラインの流動電流値を指標として、凝集剤注入装置からの凝集剤注入率を制御する制御部19を具備したことを特徴とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

水中の濁質分を分離除去する浄水膜ろ過監視制御システムにおいて、原水が供給される供給水槽と、この供給水槽に凝集剤を注入する凝集剤注入装置と、前記供給水槽に活性炭を注入する活性炭注入装置と、前記供給水槽の下流側に配置された,前処理水をろ過する膜モジュールと、この膜モジュールの下流側に配置された処理水槽と、前記膜モジュールに温水を供給する温水供給装置と、前記供給水槽に供給される原水の吸光度を計測する吸光度計と、前記供給水槽から膜モジュールに供給される原水の電流を計測する電流計測計と、前記流動計測計,凝集剤注入装置に夫々電気的に接続され,前記電流計測計で計測されるオンラインの流動電流値を指標として、凝集剤注入装置からの凝集剤注入率を制御する制御部とを具備したことを特徴とする浄水膜ろ過監視制御システム。

IPC (4)：

C02F 1/44 , B01D 65/02 , C02F 1/28 , C02F 1/52

FI (4)：

C02F1/44 H , B01D65/02 , C02F1/28 D , C02F1/52 Z

F-Term (51)：

4D006GA02 , 4D006JA70Z , 4D006KA01 , 4D006KA03 , 4D006KA67 , 4D006KB13 , 4D006KB14 , 4D006KC02 , 4D006KC03 , 4D006KC13 , 4D006KC14 , 4D006KC15 , 4D006KD08 , 4D006KD19 , 4D006KE02Q , 4D006KE06P , 4D006KE07P , 4D006KE08P , 4D006KE15P , 4D006KE15Q , 4D006KE30P , 4D006KE30Q , 4D006PA01 , 4D006PB02 , 4D006PB03 , 4D006PB04 , 4D006PB05 , 4D006PB08 , 4D015BA22 , 4D015BA23 , 4D015BB05 , 4D015CA01 , 4D015CA14 , 4D015EA03 , 4D015EA12 , 4D015EA37 , 4D015FA01 , 4D015FA22 , 4D624AA01 , 4D624AA04 , 4D624AA05 , 4D624AB04 , 4D624BA02 , 4D624BB01 , 4D624BC04 , 4D624DA01 , 4D624DA03 , 4D624DA04 , 4D624DB03 , 4D624DB05 , 4D624DB21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

浄水設備及びその運転方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-316546 Applicant：株式会社日立製作所
浄水の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-190739 Applicant：株式会社クラレ
凝集剤注入制御方法及び凝集剤注入制御システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-001530 Applicant：株式会社東芝

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