Pat
J-GLOBAL ID:201103060918823359
水素触媒部材またはその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009176542
Publication number (International publication number):2011026179
Application date: Jul. 29, 2009
Publication date: Feb. 10, 2011
Summary:
【課題】金属触媒を多孔質酸化膜に担持した触媒担体により、化学的に水素貯蔵・供給を繰り返す水素媒体を用いて、水素を取り出す脱水素または水素を取り込む水素付加を行う水素触媒部材において、軽量、小型、安価な水素反応容器用の水素触媒部材の提供を目的としており、製造が容易で、触媒金属の担持密度を大きくすることが可能であり、水素発生容器の設計自由度が高く、水素発生容器の形状に合わせた収納を可能とすることで熱交換効率が高く、アルミニウム融点以上でも使用可能な水素触媒部材を提供する。【解決手段】触媒担体がアルミニウムの多孔質酸化膜の粉砕体、または母材のアルミニウム付きの多孔質酸化膜の粉砕体であることを特徴とした水素触媒部材を用いる。【選択図】図6
Claim (excerpt):
金属触媒を多孔質酸化膜に担持した触媒担体により、化学的に水素貯蔵・供給を繰り返す媒体を用いて、水素を取り出す脱水素または水素を取り込む水素付加の水素触媒部材において、触媒担体が、アルミニウムの多孔質酸化膜の粉砕体または母材のアルミニウム付きの多孔質酸化膜の粉砕体であることを特徴とした水素触媒部材。
IPC (7):
C01B 3/00
, B01J 37/02
, B01J 32/00
, B01J 21/04
, B01J 37/34
, B01J 37/00
, C01B 3/26
FI (7):
C01B3/00 A
, B01J37/02 301K
, B01J32/00
, B01J21/04 M
, B01J37/34
, B01J37/00 A
, C01B3/26
F-Term (38):
4G140AA01
, 4G140DA03
, 4G140DC07
, 4G169AA01
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169AA09
, 4G169BA01A
, 4G169BA01B
, 4G169BB02C
, 4G169BC16C
, 4G169BC54A
, 4G169BC58A
, 4G169BC59A
, 4G169BC60A
, 4G169BC64A
, 4G169BC66A
, 4G169BC67A
, 4G169BC68A
, 4G169BC70A
, 4G169BC71A
, 4G169BC72A
, 4G169BC73A
, 4G169BC74A
, 4G169BC75A
, 4G169CB35
, 4G169CD10
, 4G169DA05
, 4G169EA01Y
, 4G169FA01
, 4G169FA02
, 4G169FB14
, 4G169FB42
, 4G169FB48
, 4G169FB49
, 4G169FB58
, 4G169FB80
, 4G169FC02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
-
水素貯蔵・供給システム及び液状有機水素貯蔵・供給体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-322111
Applicant:市川勝
-
特開昭60-159195
-
陽極酸化皮膜を用いる触媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-085728
Applicant:富士フイルム株式会社
-
特開昭52-121043
-
電子源及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-163383
Applicant:シャープ株式会社
-
排ガス浄化触媒の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-194486
Applicant:トヨタ自動車株式会社
-
陽極酸化ポーラスアルミナおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-030392
Applicant:財団法人神奈川科学技術アカデミー
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