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J-GLOBAL ID：201103062978748324
三級アミン及びその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
恩田 博宣
, 恩田 誠
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2003177181
Publication number (International publication number)：2005008597
Patent number：3762995
Application date： Jun. 20, 2003
Publication date： Jan. 13, 2005
Claim (excerpt)：
【請求項1】 下記一般式(3)で示される三級アミンの製造方法であって、下記一般式(4)で示されるチオアミドと下記一般式(5)で示されるメチル化剤とを溶媒に加えた後に下記一般式(6)で示される金属反応剤を加え、さらに下記一般式(7)で示されるグリニャール反応剤を加えることを特徴とする三級アミンの製造方法。
(式中、R1は、水素原子、アルキル基又はアリール基を示すとともにR2及びR3はアルキル基又はアリル基を示し、R7はアルキル基、アリール基、アリル基、ビニル基又はアルキニル基を示すとともにR8はアルキニル基、アリール基又はアルキル基を示す。)
(式中、R1は水素原子、アルキル基又はアリール基を示し、R2及びR3はアルキル基又はアリル基を示す。)
CH3-X ...(5)
(式中、Xはパーフルオロアルキルスルホキシル基を示す。)
R8-M1 ...(6)
(式中、R8はアルキニル基、アリール基又はアルキル基を示し、M1はアルカリ金属原子を示す。)
R7-M2 ...(7)
(式中、R7はアルキル基、アリール基、アリル基、ビニル基又はアルキニル基を示し、M2はMgCl、MgBr又はMgIを示す。)
IPC (7)：
C07C 211/27 ( 200 6.01)
, C07C 209/66 ( 200 6.01)
, C07C 211/28 ( 200 6.01)
, C07C 211/29 ( 200 6.01)
, C07C 213/08 ( 200 6.01)
, C07C 217/48 ( 200 6.01)
, C07F 7/10 ( 200 6.01)
C07C 211/27
, C07C 209/66
, C07C 211/28
, C07C 211/29
, C07C 213/08
, C07C 217/48
, C07F 7/10 C
