高屈折率材料の製造方法および当該材料と高分子材料との複合体

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：長谷川洋 , 中谷智子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009235176
Publication number (International publication number)：2011080007
Application date： Oct. 09, 2009
Publication date： Apr. 21, 2011
Summary：

【課題】安価で、100°Cより低い温度で、屈折率が高く、かつ光の吸収の少ない酸化チタン薄膜を得る。【解決手段】本発明は、波長633nmの光における屈折率が1.90以上で、かつ波長350nmの光における消衰係数が0.05以下の酸化チタンを主成分とする高屈折率材料を製造する方法であって、少なくとも、チタニウムアルコキシド、有機溶媒、ヒドラジン誘導体塩および水を混和して反応させる反応工程と、上記反応工程によって得られる溶液を基板に供給して膜を形成する膜形成工程と、上記膜形成工程後に60°C以上100°C未満の温度にて加熱する加熱工程と、を含む高屈折率材料の製造方法である。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

波長633nmの光における屈折率が1.90以上で、かつ波長350nmの光における消衰係数が0.05以下の酸化チタンを主成分とする高屈折率材料を製造する方法であって、少なくとも、チタニウムアルコキシド、有機溶媒、ヒドラジン誘導体塩および水を混和して反応させる反応工程と、上記反応工程によって得られる溶液を基板に供給して膜を形成する膜形成工程と、上記膜形成工程後に60°C以上100°C未満の温度にて加熱する加熱工程と、を含むことを特徴とする高屈折率材料の製造方法。

IPC (5)：

C09D 185/00 , C01G 23/053 , C09D 7/12 , C09D 5/00 , C09D 1/00

FI (5)：

C09D185/00 , C01G23/053 , C09D7/12 , C09D5/00 Z , C09D1/00

F-Term (14)：

4G047CA02 , 4G047CB06 , 4G047CC03 , 4G047CD02 , 4J038AA011 , 4J038DM021 , 4J038HA166 , 4J038JB17 , 4J038KA06 , 4J038KA20 , 4J038MA06 , 4J038NA19 , 4J038PA19 , 4J038PB08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

耐摺動性塗膜、液状コーティング材料および積層体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-160713 Applicant：宇部日東化成株式会社
薄膜形成方法及び薄膜形成体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-390911 Applicant：コニカミノルタホールディングス株式会社
特許第4208051号

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