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J-GLOBAL ID：201103072576244457

散水式水処理装置内の汚泥量制御方法

Inventor：
長野 晃弘

About 長野 晃弘

, 
田中 秀治

About 田中 秀治

, 
加藤 薫

About 加藤 薫


Applicant, Patent owner：
三機工業株式会社

About 三機工業株式会社


Agent (1)： 特許業務法人山田特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010082224
Publication number (International publication number)：2011212566
Application date： Mar. 31, 2010
Publication date： Oct. 27, 2011
Summary：
【課題】DHSを用いた散水式水処理装置において、反応槽内の担体表面保持汚泥量を簡略な手法によって好適に制御できるようにする。【解決手段】担体が静置装填された複数の反応槽を有する散水式水処理装置を設け、前記各反応槽に被処理水を供給することにより被処理水の好気性水処理を行い、反応槽内の担体表面保持汚泥量が好気性水処理により増加して飽和域8に達する前に反応槽への被処理水の供給を一定期間停止し、担体表面保持汚泥が微生物により自己分解して減量された後に、再び反応槽に対する被処理水の供給を再開し、反応槽内の担体表面保持汚泥量が増加して飽和域8に達する前に再び反応槽への被処理水の供給を一定期間停止するという操作を繰り返し、この操作を全ての反応槽に対してローテーション式に行う。【選択図】図4
Claim (excerpt)：
表面に好気性微生物と汚泥が付着固定される担体が静置装填された複数の反応槽を有する散水式水処理装置を設け、前記各反応槽に被処理水を供給することにより被処理水の好気性水処理を行い、反応槽内の担体表面保持汚泥量が前記好気性水処理により増加して飽和域に達する前に反応槽への被処理水の供給を一定期間停止し、前記担体表面保持汚泥が好気性微生物により自己分解されて減量した後に、再び反応槽に対する被処理水の供給を再開し、反応槽内の担体表面保持汚泥量が前記好気性水処理により増加して飽和域に達する前に反応槽への被処理水の供給を一定期間停止するという操作を繰り返し、この操作を全ての反応槽に対してローテーション式に行うことを特徴とする散水式水処理装置内の汚泥量制御方法。
IPC (1)：
C02F 3/04
FI (1)：
C02F3/04
F-Term (10)：
4D003AA02 ,  4D003AB02 ,  4D003DA01 ,  4D003DA28 ,  4D003EA01 ,  4D003EA19 ,  4D003EA31 ,  4D003FA01 ,  4D003FA05 ,  4D003FA07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (14)
  • 特開昭49-002361
  • 特開昭58-008587
  • 浄化帯および浄化装置および汚水の浄化方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-093140   Applicant：東急建設株式会社
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