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J-GLOBAL ID：201103075949407920

水素の製造方法及び製造装置

Inventor： 平尾 一之 ,  三浦 清貴 ,  下間 靖彦 ,  浅香 国和 ,  前 一廣 ,  宍戸 哲也
Applicant, Patent owner： 国立大学法人京都大学 ,  株式会社レフ・テクノロジー
Agent (4)： 田中 光雄 ,  山田 卓二 ,  山本 宗雄 ,  西下 正石
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2008522251
Patent number：4333929
Application date： Jun. 29, 2006
Claim (excerpt)：

【請求項1】 水素含有化合物の液体に、パルスレーザーを照射する工程を有する水素の製造方法であって、 該パルスレーザーのパルス幅が10-12秒以下であり、 該パルスレーザーの波長が780〜1000nmであり、 該水素含有化合物が炭素数1〜4のアルコールからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含むものである水素の製造方法。

IPC (3)：

C01B 3/22 ( 200 6.01) ,  C01B 3/24 ( 200 6.01) ,  B01J 23/72 ( 200 6.01)

FI (3)：

C01B 3/22 A ,  C01B 3/24 ,  B01J 23/72 M

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 水素発生装置、水素発生システム及び水素発生方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-060898   Applicant：日産自動車株式会社
• 燃料改質装置および燃料改質方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-294356   Applicant：ソニー株式会社
• 低温プラズマによる水素の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-153165   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

Cited by examiner (3)

• 水素発生装置、水素発生システム及び水素発生方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-060898   Applicant：日産自動車株式会社
• 燃料改質装置および燃料改質方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-294356   Applicant：ソニー株式会社
• 低温プラズマによる水素の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-153165   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• Photolysis of methanol at 185nm. Quantum mechanical calculations and product study
• Generation of H2, O2,and H2O2 from water by the use of intense femtosecond laser pulses and the poss
• Laser-Initiated Chemical Reactions in Carbon Suspensions

Cited by examiner (3)

• Photolysis of Methanol at 185nm. Quantum Mechanical Calculations and Product Study
• Generation of H2, O2,and H2O2 from water by the use of intense femtosecond laser pulses and the poss
• Laser-Initiated Chemical Reactions in Carbon Suspensions