Pat
J-GLOBAL ID:200903006996531418
水素発生装置、水素発生システム及び水素発生方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (7):
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 栗原 彰
, 川又 澄雄
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004060898
Publication number (International publication number):2005247638
Application date: Mar. 04, 2004
Publication date: Sep. 15, 2005
Summary:
【課題】一酸化炭素(CO)の発生を抑制して効率的に水素の発生量を増加させると共に、小型化した水素発生装置及び水素発生システムを提供する。工程を簡略化すると共に、一酸化炭素(CO)の発生を抑制して効率的に水素の発生量を増加させた水素発生方法を提供する。【解決手段】水と、炭素、水素及び酸素を含有する燃料ガスと、を電極3a,3b間に供給すると共に、電極3a,3b間に電圧を印加してプラズマを発生させて、燃料ガスを改質する第1の処理手段Aと、第1の処理手段Aにより改質された一酸化炭素を含む改質ガスと水に対して光を照射して光処理を行い、二酸化炭素と水素に分解する第2の処理手段Bと、を有することを特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt):
水と、炭素、水素及び酸素を含有する燃料ガスと、を電極間に供給すると共に、前記電極間に電圧を印加してプラズマを発生させて、前記燃料ガスを改質する第1の処理手段と、
前記第1の処理手段により改質された一酸化炭素を含む改質ガスと水に対して光を照射して光処理を行い、二酸化炭素と水素に分解する第2の処理手段と、
を有することを特徴とする水素発生装置。
IPC (3):
C01B3/22
, B01J35/02
, C01B3/48
FI (4):
C01B3/22 A
, C01B3/22 Z
, B01J35/02 J
, C01B3/48
F-Term (18):
4G069BA04A
, 4G069BA05A
, 4G069BA48A
, 4G069BB06A
, 4G069BC02A
, 4G069BC03A
, 4G069BC12A
, 4G069BC13A
, 4G069BC50A
, 4G069BC55A
, 4G069BC56A
, 4G069CC26
, 4G140DA01
, 4G140DA05
, 4G140DB04
, 4G140DB05
, 4G140EA09
, 4G140EB32
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
-
水素生成光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-040388
Applicant:東北大学長
-
水素発生方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-010688
Applicant:本田技研工業株式会社
-
水素発生方法および水素発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-031309
Applicant:株式会社豊田中央研究所, トヨタ自動車株式会社
-
メタノール改質用触媒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-168005
Applicant:三菱重工業株式会社
-
低温プラズマによる水素の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-153165
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
Show all
Return to Previous Page