Pat
J-GLOBAL ID:201103081588821904

ポリ(5,5’-ビス(チオフェン-2-イル)-ベンゾ[2,1-b;3,4-b’]ジチオフェン)、及び半導体ポリマーを加工可能な高機能溶液としてのその使用方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 江藤 聡明
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2011515388
Publication number (International publication number):2011526631
Application date: Jun. 25, 2009
Publication date: Oct. 13, 2011
Summary:
繰り返し単位として、式(I)【化1】(但し、 Rが、a)C1-20アルキル基、b)C2-20アルケニル基、c)C2-20アルキニル基、d)C1-20アルコキシ基、e)-Y-C3-10シクロアルキル基、f)-Y-C6-14アリール基、g)-Y-3-12員のシクロヘテロアルキル基、又はh)-Y-5-14員のヘテロアリール基から独立して選ばれ、 ここで、C1-20アルキル基、C2-20アルケニル基、C2-20アルキニル基、C3-10シクロアルキル基、C6-14アリール基、3-12員のシクロヘテロアルキル基、及び5-14員のヘテロアリール基は、任意に1-4個のR1基で置換されていても良く、 R1が、a)S(O)m-C1-20アルキル基、b)S(O)m-OC1-20アルキル基、c)S(O)m-OC6-14アリール基、d)C(O)-OC1-20アルキル基、e)C(O)-OC6-14アリール基、f)C1-20アルキル基、g)C2-20アルケニル基、h)C2-20アルキニル基、i)C1-20アルコキシ基、j)C3-10シクロアルキル基、k)C6-14アリール基、l)3-12員のシクロヘテロアルキル基、又はm)5-14員のヘテロアリール基から独立して選ばれ、 Yが、二価のC1-6アルキル基、又は共有結合から選ばれ;及び mが、0、1又は2から独立して選ばれる、)の基を含み、及び数平均分子量Mnが、5000〜200000g/molの範囲であることを特徴とするポリ(5,5’-ビス(チオフェン-2-イル)-ベンゾ[2,1-b;3,4-b’]ジチオフェン)。【選択図】なし
Claim (excerpt):
繰り返し単位として、式(I)
IPC (7):
C08G 61/12 ,  H01B 1/12 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336 ,  H01L 51/05 ,  H01L 51/30 ,  H01L 51/42
FI (7):
C08G61/12 ,  H01B1/12 F ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 618A ,  H01L29/28 100A ,  H01L29/28 250G ,  H01L31/04 D
F-Term (40):
4J032BA05 ,  4J032BB01 ,  4J032CG01 ,  5F110AA01 ,  5F110AA14 ,  5F110BB01 ,  5F110BB05 ,  5F110BB20 ,  5F110CC01 ,  5F110CC03 ,  5F110CC05 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110DD05 ,  5F110DD12 ,  5F110EE01 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE07 ,  5F110EE08 ,  5F110FF02 ,  5F110FF23 ,  5F110GG05 ,  5F110GG06 ,  5F110GG28 ,  5F110GG29 ,  5F110GG42 ,  5F110HK01 ,  5F110HK02 ,  5F110HK03 ,  5F110HK07 ,  5F110HK32 ,  5F151AA11 ,  5F151BA14 ,  5F151BA15 ,  5F151CB14 ,  5F151CB30 ,  5F151FA04 ,  5F151FA06 ,  5F151GA05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent:
Return to Previous Page