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J-GLOBAL ID:201103081588821904
ポリ(5,5’-ビス(チオフェン-2-イル)-ベンゾ[2,1-b;3,4-b’]ジチオフェン)、及び半導体ポリマーを加工可能な高機能溶液としてのその使用方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
江藤 聡明
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2011515388
Publication number (International publication number):2011526631
Application date: Jun. 25, 2009
Publication date: Oct. 13, 2011
Summary:
繰り返し単位として、式(I)【化1】(但し、 Rが、a)C1-20アルキル基、b)C2-20アルケニル基、c)C2-20アルキニル基、d)C1-20アルコキシ基、e)-Y-C3-10シクロアルキル基、f)-Y-C6-14アリール基、g)-Y-3-12員のシクロヘテロアルキル基、又はh)-Y-5-14員のヘテロアリール基から独立して選ばれ、 ここで、C1-20アルキル基、C2-20アルケニル基、C2-20アルキニル基、C3-10シクロアルキル基、C6-14アリール基、3-12員のシクロヘテロアルキル基、及び5-14員のヘテロアリール基は、任意に1-4個のR1基で置換されていても良く、 R1が、a)S(O)m-C1-20アルキル基、b)S(O)m-OC1-20アルキル基、c)S(O)m-OC6-14アリール基、d)C(O)-OC1-20アルキル基、e)C(O)-OC6-14アリール基、f)C1-20アルキル基、g)C2-20アルケニル基、h)C2-20アルキニル基、i)C1-20アルコキシ基、j)C3-10シクロアルキル基、k)C6-14アリール基、l)3-12員のシクロヘテロアルキル基、又はm)5-14員のヘテロアリール基から独立して選ばれ、 Yが、二価のC1-6アルキル基、又は共有結合から選ばれ;及び mが、0、1又は2から独立して選ばれる、)の基を含み、及び数平均分子量Mnが、5000〜200000g/molの範囲であることを特徴とするポリ(5,5’-ビス(チオフェン-2-イル)-ベンゾ[2,1-b;3,4-b’]ジチオフェン)。【選択図】なし
Claim (excerpt):
繰り返し単位として、式(I)
IPC (7):
C08G 61/12
, H01B 1/12
, H01L 29/786
, H01L 21/336
, H01L 51/05
, H01L 51/30
, H01L 51/42
FI (7):
C08G61/12
, H01B1/12 F
, H01L29/78 618B
, H01L29/78 618A
, H01L29/28 100A
, H01L29/28 250G
, H01L31/04 D
F-Term (40):
4J032BA05
, 4J032BB01
, 4J032CG01
, 5F110AA01
, 5F110AA14
, 5F110BB01
, 5F110BB05
, 5F110BB20
, 5F110CC01
, 5F110CC03
, 5F110CC05
, 5F110CC07
, 5F110DD02
, 5F110DD05
, 5F110DD12
, 5F110EE01
, 5F110EE02
, 5F110EE03
, 5F110EE07
, 5F110EE08
, 5F110FF02
, 5F110FF23
, 5F110GG05
, 5F110GG06
, 5F110GG28
, 5F110GG29
, 5F110GG42
, 5F110HK01
, 5F110HK02
, 5F110HK03
, 5F110HK07
, 5F110HK32
, 5F151AA11
, 5F151BA14
, 5F151BA15
, 5F151CB14
, 5F151CB30
, 5F151FA04
, 5F151FA06
, 5F151GA05
Patent cited by the Patent:
Article cited by the Patent:
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