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J-GLOBAL ID:201103082476381959

ボリュームデータ間の対応付け方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 山川 政樹 ,  山川 茂樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009191315
Publication number (International publication number):2011041656
Application date: Aug. 20, 2009
Publication date: Mar. 03, 2011
Summary:
【課題】処理時間を短縮し、かつ精度よくボリュームデータ間の位置合わせを行う。【解決手段】参照ボリュームデータ(D1)から探索ウィンドウ(3次元ブロック)を複数抽出する。抽出した複数の探索ウィンドウに設定される基準点に対応する入力ボリュームデータ(D2)の探索ウィンドウ内の対応点を、各探索ウィンドウより抽出したボクセルデータの相関(3次元POC)から探索する。探索した対応点と基準点との対応関係から参照ボリュームデータと入力ボリュームデータとの間の剛体変形パラメータ(回転ずれ、位置ずれを示すパラメータ)を推定し、入力ボリュームデータを剛体変形(回転ずれ、位置ずれを補正)する。剛体変形処理後の入力ボリュームデータと参照ボリュームデータについて、同様にして対応点を探索し、探索した対応点の情報を用いてFFD(Free-Form Deformation)により、入力ボリュームデータをさらに非剛体変形させる。参照ボリュームデータを剛体・非剛体変形させてもよい。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
同一対象物を撮像した2つの3次元の立体画像のデータを第1および第2のボリュームデータとして取り込むデータ取込ステップと、 前記第1のボリュームデータから複数の部分領域を抽出し、この抽出した複数の部分領域にそれぞれ設定された基準点に対応する前記第2のボリュームデータの対応点を、前記基準点を含む前記第1のボリュームデータの部分領域と前記基準点に対応する前記対応点を含む前記第2のボリュームデータの部分領域との相関から探索する対応点探索ステップと、 前記探索された対応点と基準点との対応関係から前記第1のボリュームデータと前記第2のボリュームデータとの間の回転ずれおよび位置ずれを表すパラメータを剛体変形パラメータとして推定する剛体変形パラメータ推定ステップと を備えることを特徴とするボリュームデータ間の対応付け方法。
IPC (4):
A61B 6/03 ,  A61B 5/00 ,  A61B 5/055 ,  G06T 1/00
FI (6):
A61B6/03 360G ,  A61B5/00 G ,  A61B6/03 360Q ,  A61B5/05 380 ,  A61B6/03 377 ,  G06T1/00 290B
F-Term (54):
4C093AA22 ,  4C093AA26 ,  4C093CA29 ,  4C093FD03 ,  4C093FD05 ,  4C093FF02 ,  4C093FF12 ,  4C093FF13 ,  4C093FF16 ,  4C093FF18 ,  4C093FF33 ,  4C093FF37 ,  4C093FF42 ,  4C096AA18 ,  4C096AB27 ,  4C096DA08 ,  4C096DC02 ,  4C096DC15 ,  4C096DC16 ,  4C096DC19 ,  4C096DC21 ,  4C096DC33 ,  4C096DC36 ,  4C117XA01 ,  4C117XB01 ,  4C117XE44 ,  4C117XE45 ,  4C117XK13 ,  4C117XK20 ,  4C117XK24 ,  4C117XR07 ,  4C117XR08 ,  5B057AA07 ,  5B057BA03 ,  5B057BA07 ,  5B057CA08 ,  5B057CA13 ,  5B057CA16 ,  5B057CB08 ,  5B057CB13 ,  5B057CB16 ,  5B057CD02 ,  5B057CD03 ,  5B057CD12 ,  5B057CE09 ,  5B057CH09 ,  5B057DA07 ,  5B057DA16 ,  5B057DB03 ,  5B057DB09 ,  5B057DC05 ,  5B057DC09 ,  5B057DC32 ,  5B057DC36
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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