対応点探索方法および3次元位置計測方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：山川政樹 , 山川茂樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006304620
Publication number (International publication number)：2008123141
Application date： Nov. 09, 2006
Publication date： May. 29, 2008
Summary：

【課題】対応点の探索に要する計算量を大幅に減らし、短時間でかつ高精度に、対応付けの結果を得ることができるようにする。【解決手段】対象物を異なる視点から見た複数の画像を取り込む。その画像の1つを基準画像、それ以外を参照画像とする。基準画像および参照画像から、カメラパラメータおよび基準点から計算されるエピポーラ線に沿って、所定幅Wの1次元の画素データ列を切り出す。この切り出した1次元の画素データ列から位相限定相関関数を計算することによって相関ピークの位置Pa1を求め、この相関ピークの位置Pa1から位置ずれ量dを求め、この位置ずれ量dから基準点pに対応する対応点qを探索する。【選択図】図8

Claim (excerpt)：

画像取込手段を介して、対象物を異なる視点から見た複数の画像を取り込む画像取込ステップと、前記画像取込手段のパラメータおよび基準点から計算されるエピポーラ線に沿って前記複数の画像より1次元の画素データ列を切り出す画素データ列切出ステップと、前記複数の画像から切り出された1次元の画素データ列の相関から前記複数の画像中の対応点を探索する対応点探索ステップとを備えることを特徴とする対応点探索方法。

IPC (2)：

G06T 1/00 , G01B 11/00

FI (2)：

G06T1/00 315 , G01B11/00 H

F-Term (22)：

2F065AA04 , 2F065AA06 , 2F065DD06 , 2F065FF05 , 2F065FF09 , 2F065JJ03 , 2F065JJ05 , 2F065JJ26 , 2F065QQ16 , 2F065QQ18 , 2F065QQ33 , 2F065QQ34 , 2F065QQ36 , 2F065QQ41 , 2F065QQ42 , 5B057CA13 , 5B057CA16 , 5B057CG09 , 5B057DA07 , 5B057DC05 , 5B057DC09 , 5B057DC36

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

立体像計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-290634 Applicant：山武ハネウエル株式会社

Cited by examiner (5)

物体検出システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-166618 Applicant：株式会社東芝
移動体搭載撮像装置の撮像ステレオ画像処理方法およびこの方法を実施する装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-335763 Applicant：日本航空電子工業株式会社
相関演算評価方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-066125 Applicant：株式会社日本自動車部品総合研究所

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