Pat

J-GLOBAL ID：201103087318377016

多孔質炭素層に内包された触媒及びその製造方法

Inventor： 池田 茂 ,  桑畑 進 ,  鳥本 司
Applicant, Patent owner： 国立大学法人大阪大学 ,  国立大学法人名古屋大学 ,  財団法人大阪産業振興機構
Agent (3)： 鮫島 睦 ,  田村 恭生 ,  言上 惠一
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2008520541
Patent number：4584334
Application date： Jun. 01, 2007
Claim (excerpt)：

【請求項1】 触媒粒子を含むコア部と、前記コア部を覆うように形成された多孔質炭素層とを含む触媒構造体を製造する方法であって、 前記コア部を覆うようにシリカ含有層を形成する第一工程と、 前記シリカ含有層を覆うように、多孔質シリカ含有層の細孔内に炭素を有する、多孔質シリカ-炭素含有層を形成する第二工程と、 前記シリカ含有層及び前記多孔質シリカ-炭素含有層内のシリカを除去する第三工程と、 を包含する、触媒構造体の製造方法。

IPC (6)：

B01J 33/00 ( 200 6.01) ,  B01J 35/08 ( 200 6.01) ,  B01J 23/42 ( 200 6.01) ,  B01J 23/46 ( 200 6.01) ,  B01J 23/44 ( 200 6.01) ,  B01J 23/52 ( 200 6.01)

FI (8)：

B01J 33/00 C ,  B01J 35/08 A ,  B01J 35/08 B ,  B01J 23/42 Z ,  B01J 23/46 311 Z ,  B01J 23/44 Z ,  B01J 23/46 301 Z ,  B01J 23/52 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭64-051146
  
• 内部に制御された空隙を有するコア・シェル構造体及びそれを構成要素とする構造体並びにこれらの調製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-052395   Applicant：科学技術振興事業団
• 磁性金属内包カーボンナノカプセルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-155355   Applicant：財団法人工業技術研究院

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 単分散シリカを鋳型とした中空状炭素粒子の合成