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J-GLOBAL ID：201103090382788985
SWNT可飽和吸収光学材料の作製方法、パルスレーザー装置、全光型光スイッチ装置
戒能 俊邦
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About 戒能 俊邦
Applicant, Patent owner：
国立大学法人東北大学
About 国立大学法人東北大学
Agent (5)： 重信 和男 , 水野 昭宣 , 清水 英雄 , 高木 祐一 , 中野 佳直
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2005283996
Publication number (International publication number)：2007094065
Patent number：4665171
Application date： Sep. 29, 2005
Publication date： Apr. 12, 2007
Claim (excerpt)：
【請求項1】単層カーボンナノチューブ(SWNT)が有する光の可飽和吸収特性を安定に発現させるための光学材料作製方法において、溶剤としてクロロベンゼン(CLB)を用いることにより、該SWNTをPMMA、ポリスチレンを包含する透明性プラスチック材料から選択され且つ導波路化
が可能で任意の厚みの高精度光学研磨が容易な透明性プラスチック材料に均一に分散せしめ且つ含有せしめることを特徴とするSWNT可飽和吸収光学材料の作製方法。
IPC (2)：
FI (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
Article cited by the Patent：
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光学測定用基材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-024912 Applicant：東レ株式会社 -
塗料とそれを用いて形成された膜及びそれらの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-221571 Applicant：日本電気株式会社
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光学測定用基材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-024912 Applicant：東レ株式会社 -
塗料とそれを用いて形成された膜及びそれらの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-221571 Applicant：日本電気株式会社
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