Art

J-GLOBAL ID：201202227429683183   Reference number：12A0546283

Studies on Optimal Gas Supply For a Maskless Etching System with Micro- Discharge Plasma Operated at Atmospheric Pressure

大気圧で動作するマイクロ放電プラズマを用いたマスクレスエッチングシステムのための最適ガス供給の研究

Author (3)： HAMADA Toshiyuki (Miyazaki Prefectural Government Public Enterprise Bureau, Electricity Div., 1-2-2 Asahi, 880-0803, Miyazaki, JPN) ,  ARIMURA Takuya (Univ. of Miyazaki, Dep. of Electrical and Electronic Engineering, 1-1 Gakuenkibanadai-Nishi, 889-2192, Miyazaki, JPN) ,  SAKODA Tatsuya (Univ. of Miyazaki, Dep. of Electrical and Electronic Engineering, 1-1 Gakuenkibanadai-Nishi, 889-2192, Miyazaki, JPN)
Material： Plasma Chemistry and Plasma Processing  (Plasma Chem Plasma Process)
Volume： 32  Issue： 2  Page： 325-332  Publication year： Apr. 2012 
JST Material Number： H0836A  ISSN： 0272-4324  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： gas discharge ,  *plasma etching ,  gas supply system ,  solar cell ,  plasma production ,  micro discharge ,  surface electrode ,  discharge plasma
Semi thesaurus term： *マスクレスエッチング ,  byproduct ,  *atmospheric pressure plasma

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： 大気圧 ,  マイクロ ,  放電プラズマ ,  ガス供給 ,  研究