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J-GLOBAL ID：201202245380139022   Reference number：12A0155286

Si基板上に作製したErSi₂ナノワイヤーの構造解析と光学特性

Author (1)： CHO SHIN'I (東京理大 大学院)
Material： 真空ジャーナル  (Journal of Japan Vacuum Industry Association)
Issue： 139  Page： 15-19  Publication year： Jan. 13, 2012 
JST Material Number： L8030A  ISSN： 1883-1052  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *wafer ,  *nanowire ,  *structure analysis ,  *optical property ,  silicide ,  spectrum ,  self-organizing ,  photoluminescence ,  scanning electron microscope ,  electron microscopy ,  transmission electron microscope ,  *metallic thin film ,  *Erbium ,  heat treatment ,  *crystal structure ,  interdiffusion ,  *Si wafer ,  Scanning Electron Microscopy
Semi thesaurus term： *silicon substrate ,  二珪化エルビウム ,  scanning electron microscopy

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Crystal structure of metals  (BK06000V)

Reference (13)：

• 1) 「Nanotechnology」,原著:Gregory Timp,翻訳:広瀬千秋,NTS。
• 2) 「自己組織化プロセス技術」,村田好正,培風館
• 3) S. Komuro, S. Maruyama, T. Morikawa, X. Zhao, H. Isshiki, and Y. Aoyagi, Appl. Phys. Lett. 69 (1996) 3896.
• 4) X. Zhao, S. Komuro, H. Isshiki, Y. Aoyagi, and T. Sugano, Appl. Phys. Lett. 74 (1999) 120.
• 5) R. Watanabe, S. Harako, T. Kuzuu, K. Kouno, T. Kobayashi, T. Meguro and X. Zhao, Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) 5535.

Terms in the title (5)： Si基板 ,  作製 ,  ナノワイヤー ,  構造解析 ,  光学特性