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J-GLOBAL ID：201202255854050813   Reference number：12A0557992

Reworkable Dimethacrylates with Low Shrinkage and Their Application to UV Nanoimprint Lithography-Effect of Monomer Structure-

リワーク型低収縮ジメタクリラートとそのUVインプリント材料への応用-樹脂構造の影響-

Author (3)： MATSUKAWA DAISAKU (大阪府大 大学院工学研究科) ,  OKAMURA HARUYUKI (大阪府大 大学院工学研究科) ,  SHIRAI MASAMITSU (大阪府大 大学院工学研究科)
Material： ネットワークポリマー  (Journal of Network Polymer, Japan)
Volume： 33  Issue： 2  Page： 74-79  Publication year： Mar. 10, 2012 
JST Material Number： Z0934A  ISSN： 1342-0577  CODEN： NPORF2  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *degradable polymer ,  molecular structure ,  *photopolymerizable resin ,  compression forming ,  *pattern formation ,  ultraviolet radiation ,  *solubilization ,  *photocrosslinking ,  Molecular Weight ,  length ,  molecular chain ,  photoinitiator ,  differential scanning calorimetry ,  proton magnetic resonance ,  FTIR spectroscopy ,  hardness ,  size exclusion chromatography ,  *lithography ,  photoacid generator ,  ultraviolet irradiation ,  pencil hardness ,  crosslinking structure ,  chain length
Semi thesaurus term： PMMA ,  imprint lithography ,  photopolymerizable resin ,  molecular length

JST classification (2)： Acrylic resins  (YH07110K) ,  Decomposition,deterioration,degradation of polymers  (CG03010A)

Substance index (6)： α,α-Dimethoxydeoxybenzoin ,  Bis(4-tert-butylphenyl)iodonium・trifluoromethanesulfonic acidanion ,  1,3-Adamantanedicarboxylic acid bis[2-[1-(methacryloyloxy)ethoxy]ethyl] ester ,  Bismethacrylic acid 1,4-cyclohexanediylbis[carbonyloxy(1,1-ethanediyl)oxyethylene] ester ,  Dimethacrylic acid 1,4-cyclohexanediylbis[methyleneoxy(1,1-ethanediyl)] ester ,  5,5′-[Isopropylidenebis(1,4-phenyleneoxy)]bis(3-oxapentane-2-ol methacrylate)

Reference (6)：

• 1)B. D. Gates, Q. Xu, M. Stewart, D. Ryan, C. G. Willson, and G. M. Whitesides, Chem. Rev. , 105, 1171 (2005).
• 2)D. Matsukawa, H. Wakayama, K. Mitsukura, H. Okamura, Y. Hirai, and M. Shirai, J. Mater. Chem. , 19, . 4085 (2009).
• 3)D. Matsukawa, H. Okamura, and M. Shirai, J. Mater. Chem. , 21, 10407 (2011).
• 4)M. Shirai, K. Mitsukura, and H. Okamura, Chem. Mater. , 20, 1971 (2008).
• 5)J. Brandrup, E. H. Immergut, and E. A. Grulke, Ed. , "Polymer Handbook, (4th ed.), " John Wiley and Sons (1999).

Terms in the title (3)： リワーク ,  収縮 ,  応用