Art

J-GLOBAL ID：201202256513062917   Reference number：12A1012100

Stamp design effect on 100 nm feature size for 8 inch NanoImprint lithography

8inナノインプリントリソグラフィー用の100nm特徴サイズに及ぼすスタンプ設計の影響

Author (5)： LANDIS S. (CEA, Grenoble) ,  CHAIX N. ,  GOURGON C. ,  PERRET C. ,  LEVEDER T.
Material： Nanotechnology
Volume： 17  Issue： 10  Page： 2701-9  Publication year： 2006 
JST Material Number： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： compression forming ,  *embossing (plastic working) ,  typing ,  pattern formation ,  photoresist ,  *electron beam lithography ,  *hot embossing ,  stamp
Semi thesaurus term： *nanoimprint lithography ,  nano lithography ,  feature size

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： ナノインプリントリソグラフィー ,  サイズ ,  スタンプ ,  設計