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J-GLOBAL ID：201202257729569826   Reference number：12A1101683

Electrical Conductive Corundum-Structured α-Ga₂O₃ Thin Films on Sapphire with Tin-Doping Grown by Spray-Assisted Mist Chemical Vapor Deposition

スプレー支援 霧CVD法でサファイヤ上に成長させた すずドーピング電気伝導性コランダム-構造 α-Ga₂O₃薄膜

Author (2)： AKAIWA Kazuaki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  FUJITA Shizuo (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 51  Issue： 7,Issue 1  Page： 070203.1-070203.3  Publication year： Jul. 25, 2012 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *gallium oxide ,  sapphire ,  substrate(plate) ,  electrical conductivity ,  tin ,  doping ,  *thin film ,  X-ray diffraction ,  Hall mobility

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (17)：

• 1) D. Shinohara and S. Fujita. Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 7311.
• 2) M. Onta, H. Ohta, M. Hirano, and H. Hosono: Appl. Phys. Lett. 77 (2000) 4166.
• 3) N. Suzuki, S. Ohira, M. Tanaka, T. Sugawara, K. Nakajima, and T. Shishido: Phys. Status Solidi C 4 (2007) 2310.
• 4) K. Matsuzaki, H. Yanagi, T. Kamiya, H. Hiramatsu, K. Nomura, M. Hirano, and H. Hosono: Appl. Phys. Lett. 88 (2006) 092106.
• 5) T. Oshima, T. Okuno, and S Fujita. Jpn. J. Appl. Phys. 46 (2007) 7217.

Terms in the title (11)： スプレー ,  支援 ,  霧 ,  CVD法 ,  サファイヤ ,  成長 ,  すず ,  ドーピング ,  電気伝導性 ,  コランダム ,  薄膜