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J-GLOBAL ID：201202261629765340   Reference number：12A0626709

Catalytic Oxidative Coupling of Methane Assisted by Electric Power over a Semiconductor Catalyst

半導体触媒上での電気がアシストするメタンの接触酸化的カップリング

Author (6)： TANAKA Keisuke (Dep. of Applied Chemistry, Waseda Univ.) ,  SEKINE Yasushi (Dep. of Applied Chemistry, Waseda Univ.) ,  OSHIMA Kazumasa (Dep. of Applied Chemistry, Waseda Univ.) ,  TANAKA Yoshitaka (Dep. of Applied Chemistry, Waseda Univ.) ,  MATSUKATA Masahiko (Dep. of Applied Chemistry, Waseda Univ.) ,  KIKUCHI Eiichi (Dep. of Applied Chemistry, Waseda Univ.)
Material： Chemistry Letters  (Chem Lett)
Volume： 41  Issue： 4  Page： 351-353 (J-STAGE)  Publication year： 2012 
JST Material Number： S0742A  ISSN： 0366-7022  CODEN： CMLTAG  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *Oxidative Coupling ,  *alkane ,  compound semiconductor ,  *lanthanum oxide ,  doping ,  Strontium ,  plasma chemical reaction ,  electrical conductivity ,  catalyst preparation ,  surface area ,  X-Ray Diffraction ,  crystal structure ,  catalytic activity ,  electrochemical impedance ,  Nyquist diagram ,  Bode diagram ,  electric field effect ,  *catalytic oxidation ,  alkene ,  aliphatic alcohol ,  aliphatic carboxylic acid ,  hydroxy acid ,  polycarboxylic acid ,  AC impedance method
Semi thesaurus term： plasma reaction

JST classification (3)： Other catalysts  (CB06123Z) ,  Alkanes  (CF03020I) ,  Oxidation,reduction  (CF02060T)

Substance index (4)： Ethane ,  Ethylene ,  Citric acid ,  Methane

Reference (23)：

• AIKA, K.-i. J. Phys. Chem. 1977, 81, 1393
• AIKA, K.-i. J. Phys. Chem. 1978, 82, 1794
• LIN, C.-H. J. Phys. Chem. 1986, 90, 534
• LUNSFORD, J. H. Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1995, 34, 970
• OTSUKA, K. J. Catal. 1986, 100, 353

Terms in the title (4)： 触媒 ,  アシスト ,  メタン ,  酸化的カップリング