Art

J-GLOBAL ID：201202271294869523   Reference number：12A1681535

Electrical Resistivity and Morphology of Sn_1-x/Si_x Core-Shell Cluster Network Prepared by a Plasma-Gas-Condensation Cluster Source

プラズマガス凝縮クラスタ源によって作製したSn_1-x/Si_xコア-シェルクラスタネットワークの電気抵抗と形態

Author (3)： KUROKAWA Yuichiro (Dep. of Frontier Materials Graduate School of Engineering, Nagoya Inst. of Technol.) ,  HIHARA Takehiko (Dep. of Frontier Materials Graduate School of Engineering, Nagoya Inst. of Technol.) ,  SUMIYAMA Kenji (Dep. of Frontier Materials Graduate School of Engineering, Nagoya Inst. of Technol.)
Material： Materials Transactions  (Mater Trans)
Volume： 53  Issue： 11  Page： 1929-1932 (J-STAGE)  Publication year： 2012 
JST Material Number： G0668A  ISSN： 1345-9678  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *metal cluster ,  network ,  *tin ,  *silicon ,  structure ,  *electric resistance ,  morphology (form) ,  temperature dependence ,  Superconductivity ,  semiconductor ,  cluster beam ,  condensation ,  cluster formation ,  sedimentation (accumulate) ,  core-shell structure
Semi thesaurus term： plasma gas condensation

JST classification (2)： Other metallography  (WB01040Y) ,  Electrical properties  (WB02010Y)

Reference (24)：

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• 3) S. Yatsuya, T. Kamakura, K. Yamauchi and K. Mihama: Jpn. J. Appl. Phys. 25 (1986) L42–L44.
• 4) H. Haberland, M. Karrais, M. Mall and Y. Thurner: J. Vac. Sci. Technol. A 10 (1992) 3266–3271.
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Terms in the title (7)： プラズマガス ,  凝縮 ,  クラスタ ,  作製 ,  コア-シェル ,  電気抵抗 ,  形態