高分子ナノ構造体を表面に備える基板及びその製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (4)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010268532
Publication number (International publication number)：2012116967
Application date： Dec. 01, 2010
Publication date： Jun. 21, 2012
Summary：

【課題】ブロックコポリマーの相分離構造の形成を迅速かつ簡便に制御することにより、高分子ナノ構造体を備える基板を製造し得る方法の提供。【解決手段】複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーとカーボンナノチューブとを混合することを特徴とする、ブロックコポリマーの相分離構造の形成方法、複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーの溶液にカーボンナノチューブを混合し、混合溶液を調製する工程と、調製された混合溶液を、基板表面に塗布することにより、ブロックコポリマーの相分離構造を有する層を形成する工程と、前記層のうち、前記ブロックコポリマーを構成する複数種類のポリマーのうちの少なくとも一種類のポリマーからなる相を選択的に除去する工程と、を有することを特徴とする、高分子ナノ構造体を表面に備える基板の製造方法、並びに当該製造方法により製造された高分子ナノ構造体を表面に備える基板。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーとカーボンナノチューブとを混合することを特徴とする、ブロックコポリマーの相分離構造の形成方法。

IPC (6)：

C08L 53/00 , B82B 3/00 , B82B 1/00 , C08K 3/04 , C01B 31/02 , B32B 27/28

FI (6)：

C08L53/00 , B82B3/00 , B82B1/00 , C08K3/04 , C01B31/02 101F , B32B27/28

F-Term (32)：

4F100AA00B , 4F100AB11 , 4F100AK12B , 4F100AK25B , 4F100AL02B , 4F100AT00A , 4F100BA02 , 4F100DE00B , 4F100EH46B , 4F100EJ42B , 4F100EJ61 , 4F100EJ64 , 4F100YY00B , 4G146AA11 , 4G146AB10 , 4G146AD28 , 4G146AD40 , 4G146CB10 , 4G146CB17 , 4G146CB19 , 4G146CB28 , 4G146CB29 , 4G146CB35 , 4G146CB39 , 4J002BP031 , 4J002DA016 , 4J002FD206 , 4J002GD00 , 4J002GE00 , 4J002GF00 , 4J002GQ05 , 4J002GT00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

導電性樹脂組成物及びその成形体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-351250 Applicant：昭和電工株式会社
導電性組成物及びその製造方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2006-523262 Applicant：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
ナノ構造化されたパターン製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-210080 Applicant：ロームアンドハースデンマークファイナンスエーエス

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