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J-GLOBAL ID：201203029485874991

有機ハイドライド製造装置

Inventor：
平重 貴之

About 平重 貴之

, 
石川 敬郎

About 石川 敬郎


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (4)： 井上 学 ,  戸田 裕二 ,  渡邊 孝弘 ,  岩崎 重美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010220254
Publication number (International publication number)：2012072477
Application date： Sep. 30, 2010
Publication date： Apr. 12, 2012
Summary：
【課題】電気化学的に有機ハイドライドを生成させる装置において、小型で効率の良い有機ハイドライド製造装置を提供することができる。【解決手段】本発明は、電気化学的に有機ハイドライドを製造する装置において、その電極構造が、触媒層として金属触媒担持カーボンもしくは金属触媒が、プロトン伝導性固体高分子電解質と適度に混ざり合ったマトリクスになっている構造であり、それらの触媒層が、透過水をブロックする層が形成されたプロトン伝導性固体高分子電解質膜の表裏に形成されていることを特徴とする。この電極において、アノード側に水もしくは水蒸気を供給し、カソード側に被水素化物を供給した状態で、アノード-カソード間に電圧を負荷することで、アノードにおいて水の電気分解反応、カソードにおいて被水素化物への水素付加反応を起こし有機ハイドライドを生成させることを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
有機ハイドライド製造装置であって、 被水素化物を還元するカソード触媒層、および水を酸化するアノード触媒層がプロトン導電性の固体高分子電解質膜を挟むように配置された膜電極接合体と、カソード触媒層に被水素化物を供給する部材と、アノード触媒層に水または水蒸気を供給する部材とを備え、 前記固体高分子電解質膜表面もしくは内部に、水をブロックする層が形成されていることを特徴とする有機ハイドライド製造装置。
IPC (3)：
C25B 9/00 ,  C25B 3/04 ,  C25B 9/10
FI (3)：
C25B9/00 G ,  C25B3/04 ,  C25B11/20
F-Term (12)：
4K011BA01 ,  4K011BA07 ,  4K011DA10 ,  4K021AC02 ,  4K021BA11 ,  4K021DB05 ,  4K021DB18 ,  4K021DB20 ,  4K021DB31 ,  4K021DB49 ,  4K021DB53 ,  4K021DC15
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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