太陽光選択的吸収コーティング及び製造方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：新保斉
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2011531521
Publication number (International publication number)：2012506021
Application date： Oct. 08, 2009
Publication date： Mar. 08, 2012
Summary：

太陽光吸収及び低放射率特性を有する太陽光選択的吸収コーティング及び製造方法。コーティングは、金属、誘電体またはセラミック材料の支持体(1)と、支持体それ自体に適用されかつ低放射率特性を付与する少なくとも1つの中〜遠赤外線高反射性金属層(2)と、高反射性金属層に適用される、サブナノメートル厚さの交互になった誘電体層及び金属層の多層構造体(3)と、太陽光スペクトルの反射防止層として機能する少なくとも1つの誘電体層(4)とを備える。このコーティングは、パラボラトラフ型太陽炉用の吸収管、温水、加熱または家庭内冷却用の太陽電池パネルにおける選択的吸収コーティングとして、タワー型太陽熱発電所の捕捉システム及びスターリングディッシュシステムの捕捉システムにおける吸収管及び吸収シートの両方の形態において適用可能である。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

太陽光吸収特性及び低放射率を有する太陽光選択的吸収コーティングであって、金属、誘電体またはセラミック材料の支持体(1)と、この支持体(1)上に堆積された中〜遠赤外線高反射性の少なくとも1つの金属層(2)と、この金属反射層(2)上に堆積された、交互になった誘電体層(5)及び金属層(6)から構成される多層吸収構造体(3)と、この多層吸収構造体(3)上に堆積された少なくとも1つの反射防止誘電体層(4)とから構成され、多層吸収構造体(3)の誘電体層(5)が互いに同じまたは異なる厚さ及び/または組成になり得て、多層吸収構造体(3)の金属層(6)が互いに同じまたは異なる厚さ及び/または組成を有し得て、多層吸収構造体(3)の金属層(6)及び誘電体層(5)のそれぞれの厚さが10nm未満、好ましくは1nm未満であり、多層吸収構造体(3)の総厚が5〜1000nmであり、太陽光選択的吸収コーティングの誘電体質の層が、誘電体層が堆積されるチャンバまたはチャンバの一部に不活性ガス及び反応ガスを含んだ反応性スパッタリングによって堆積され、太陽光選択的吸収コーティングの金属層が、金属シートが堆積されるチャンバまたはチャンバの一部に不活性ガスだけを導入してDCスパッタリングによって堆積されることから他に類をみない太陽光選択的吸収コーティング。

IPC (2)：

F24J 2/48 , C03C 17/36

FI (4)：

F24J2/48 J , C03C17/36 , F24J2/48 D , F24J2/48 E

F-Term (20)：

4G059AA01 , 4G059AC06 , 4G059AC07 , 4G059DA01 , 4G059DA02 , 4G059DA03 , 4G059DA04 , 4G059DA05 , 4G059DA06 , 4G059DA07 , 4G059DA08 , 4G059DB01 , 4G059EA02 , 4G059EA04 , 4G059EA05 , 4G059EA12 , 4G059EB04 , 4G059GA02 , 4G059GA04 , 4G059GA14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特公平2-022863
特開昭59-080747
反射防止膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-178534 Applicant：キヤノン株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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