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J-GLOBAL ID：201203038653872907

エスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置及びそれを用いたエスカレータ

Inventor：
小林 浩之

About 小林 浩之

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丹藤 匠

About 丹藤 匠

, 
板橋 直志

About 板橋 直志


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： ポレール特許業務法人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011063320
Publication number (International publication number)：2012197154
Application date： Mar. 22, 2011
Publication date： Oct. 18, 2012
Summary：
【課題】エスカレータのハンドレールの殺菌と洗浄を行う。【解決手段】ハンドレールと、ハンドレールに対してイオン、またはラジカル、またはUV光を照射するためのプラズマ源と、プラズマ源を収納するための筐体と、プラズマを生成するための電源と、筐体内を相対的に負圧にするためのファンと、ラジカルや、除去した菌やウイルスや手あかなどの有機物を除去するためのフィルタユニットと、前記筐体のハンドレール移動方向の前後に、前記ハンドレールに沿ってフィルタプレートを有するプラズマ殺菌・洗浄装置。【選択図】図1A
Claim (excerpt)：
エスカレータのハンドレールの表面形状に沿いかつ該ハンドレール移動方向に沿って配置された面状の放電部を有するプラズマ源と、 密閉した空間内に該プラズマ源を収納するための筐体と、 前記ハンドレールの移動方向に沿って前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた一対の入口部と、 前記一対の入口部に配置され、前記ハンドレールの断面形状に沿った形状を有し、該ハンドレールの表面との間に微小隙間を有するフィルタプレートと、 前記プラズマ源の電源とを備えており、 前記プラズマ源は、略大気圧雰囲気において前記ハンドレールの表面の近傍にプラズマを生成し、 前記フィルタプレートは、前記プラズマにより前記空間内に発生したラジカルや、該プラズマで除去された前記ハンドレールの有機物を除去するための、フィルタを有する ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
IPC (2)：
B66B 31/02 ,  A61L 2/14
FI (2)：
B66B31/02 A ,  A61L2/14
F-Term (9)：
3F321HA23 ,  3F321HA31 ,  4C058AA30 ,  4C058BB06 ,  4C058KK06 ,  4C058KK11 ,  4C058KK22 ,  4C058KK32 ,  4C058KK50
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (4)
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