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J-GLOBAL ID：201003055333948643

プラズマ支援式の表面処理のための方法及び装置

Inventor： イェルク エールベック ,  リューディガー フェースト ,  エックハルト キンデル ,  ノルベルト レンプケ ,  マンフレート シュティーバー ,  クラウス-ディーター ヴェルトマン
Applicant, Patent owner： ネオプラス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Agent (8)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  高橋 佳大 ,  星 公弘 ,  二宮 浩康 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2010519424
Publication number (International publication number)：2010536131
Application date： Jul. 26, 2008
Publication date： Nov. 25, 2010
Summary：

本発明は、表面を、表面障壁放電により形成される大気圧プラズマを用いて乾式洗浄、活性化、被覆、変性及び生物汚染除去(細菌除去、消毒、滅菌)するための方法及び一連の装置に関する。本発明は、表面を、表面障壁放電により流動状の所定のガス雰囲気内に形成される大気圧プラズマを用いて乾式洗浄、活性化、被覆、変性及び生物汚染除去するために用いられ、誘電体又は強誘電体で覆われた高電圧電極、接地された導電性の接触電極、高電圧供給部及びガス供給部、並びにガス出口開口部を備えたガスノズルを含んでおり、この場合にガスノズルは、接地された接触電極のすぐ近くに配置され、又は、ガスノズルは、接地された接触電極内に組み込まれ、又は、ガスノズルはそれ自体、接地された接触電極として作動するようになっており、かつガス出口開口部は、流出するガス流を接地された接触電極に向けるように構成されている。方法は、ガスノズルを有する接触電極と処理すべき材料とを互いに相対的に運動させることを特徴としている。

Claim (excerpt)：

表面(3)の乾式の洗浄、活性化、被覆、変性及び生物汚染除去のための装置であって、表面障壁放電により流動状の所定のガス雰囲気内に形成される大気圧プラズマを用いており、誘電体又は強誘電体(4)で覆われた高電圧電極(5)、接地された導電性の接触電極(2)、高電圧供給部(7)及びガス供給部(8)、並びにガス出口開口部(12)を備えたガスノズル(1)を含んでいる形式のものにおいて、 a) 前記ガスノズル(1)は、前記接地された接触電極(2)のすぐ近くに配置されており、又は、 b) 前記ガスノズル(1)は、前記接地された接触電極(2)内に組み込まれており、又は、 c) 前記ガスノズル(1)自体が、前記接地された接触電極(2)として作動するようになっており、かつ前記ガス出口開口部(12)は、流出するガス流を前記接地された接触電極(2)に向けるように構成されていることを特徴とする、プラズマ支援式の表面処理のための装置。

IPC (6)：

H05H 1/24 ,  C23C 16/513 ,  H01L 21/31 ,  C23G 5/00 ,  B01J 19/08 ,  B08B 7/00

FI (6)：

H05H1/24 ,  C23C16/513 ,  H01L21/31 C ,  C23G5/00 ,  B01J19/08 E ,  B08B7/00

F-Term (46)：

3B116AA01 ,  3B116AA08 ,  3B116AA12 ,  3B116AA22 ,  3B116AA46 ,  3B116AB52 ,  3B116BA02 ,  3B116BB22 ,  3B116BB89 ,  3B116BB90 ,  4G075AA30 ,  4G075AA37 ,  4G075BC10 ,  4G075CA47 ,  4G075CA63 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EC21 ,  4G075ED04 ,  4G075ED13 ,  4G075FA02 ,  4G075FB02 ,  4G075FB13 ,  4G075FC15 ,  4K030AA06 ,  4K030AA10 ,  4K030BA44 ,  4K030EA05 ,  4K030FA03 ,  4K030JA09 ,  4K030KA14 ,  4K030KA15 ,  4K030KA17 ,  4K030KA30 ,  4K030KA47 ,  4K053QA04 ,  4K053QA07 ,  4K053RA03 ,  4K053SA01 ,  4K053SA11 ,  4K053XA50 ,  5F045AA08 ,  5F045AE29 ,  5F045DP03 ,  5F045EF01 ,  5F045EH20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 特開昭63-113030
  
• 可搬式小型表面処理装置及び可搬式小型表面処理装置の放電処理部材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-213416   Applicant：日本ペイント株式会社
• 放電処理機
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-350411   Applicant：株式会社ブリヂストン, 信光電気計装株式会社
• 旋回流型大気圧プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-235299   Applicant：パール工業株式会社
• 大気圧プラズマ装置、大気圧プラズマ処理方法及びデバイス並びにデバイス製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-072873   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• 放電プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-298024   Applicant：積水化学工業株式会社
• 大気圧プラズマ処理装置、大気圧プラズマ処理方法及び大気圧プラズマ処理装置用の電極システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-239127   Applicant：コニカ株式会社
• プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-203673   Applicant：岡崎幸子, 小駒益弘, 松下電工株式会社, イーシー化学株式会社
• 表面処理方法、表面処理装置、防眩層の形成方法、防眩性フィルム、及び、防眩性低反射フィルム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-127669   Applicant：コニカミノルタホールディングス株式会社