蛍光体変換発光装置のための蛍光体被覆光抽出構造

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (12)：清水初志 , 春名雅夫 , 山口裕孝 , 刑部俊 , 井上隆一 , 佐藤利光 , 新見浩一 , 小林智彦 , 渡邉伸一 , 大関雅人 , 五十嵐義弘 , 川本和弥
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2011536526
Publication number (International publication number)：2012508986
Application date： Nov. 13, 2009
Publication date： Apr. 12, 2012
Summary：

半球レンズ、フレネルレンズ、またはマイクロレンズアレイの表面の上に等角薄膜蛍光体層を配置し、それによって蛍光体被覆光抽出構造を形成する。また、薄膜蛍光体層を組み込む蛍光体変換されたフォトニック結晶発光装置も開示する。薄膜蛍光体層を組み込むウエハレベルのパッケージングプロセスもまた、本出願において開示する。

Claim (excerpt)：

被覆面を含む光抽出構造と、少なくとも1つの蛍光粉体層、および該少なくとも1つの蛍光粉体層のための結合剤として機能する少なくとも1つの高分子層を含む、薄膜蛍光体層と、を備える蛍光体被覆光抽出構造であって、前記薄膜蛍光体層が、前記光抽出構造の前記被覆面に隣接して等角的に配置される、蛍光体被覆光抽出構造。

IPC (2)：

H01L 33/50 , H01L 33/58

FI (2)：

H01L33/00 410 , H01L33/00 430

F-Term (5)：

5F041AA03 , 5F041DA17 , 5F041DA78 , 5F041EE11 , 5F041EE25

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平4-230996
特表平4-504441
良好な耐湿性を有する燐光体パネル
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-168255 Applicant：アグファ・ゲヴェルト・ナームロゼ・ベンノートチャップ

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