Pat

J-GLOBAL ID：201203056687388050

圧力波を利用して基板から材料を除去するためのプラズマ源および方法

Inventor： ヤンシー, ピーター ジョセフ
Applicant, Patent owner： エーピー ソルーションズ, インコーポレイテッド
Agent (3)： 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2011549311
Publication number (International publication number)：2012517671
Application date： Feb. 08, 2010
Publication date： Aug. 02, 2012
Summary：

基板から材料を除去するために提供される方法では、プラズマが大気圧で生成される。プラズマは、材料の1つ以上の構成要素と反応するエネルギー種を含む。プラズマは、高プラズマ密度および低プラズマ密度の周期的領域を含むプラズマプルームとして、出口から流出する。材料は、プラズマプルームに曝露される。材料の少なくとも1つの構成要素は、エネルギー種と反応し、材料の少なくとも1つの他の構成要素は、高プラズマ密度の領域のうちの1つ以上によって物理的に衝撃を加えられ、移動させられる。

Claim (excerpt)：

材料を基板から除去する方法であって、該基板の上に該材料は配置され、該方法は、 大気圧においてプラズマを生成することであって、該プラズマは、該材料の1つ以上の構成要素と反応するエネルギー種を含む、ことと、 高プラズマ密度および低プラズマ密度の周期的領域を含むプラズマプルームとして、ノズル出口から該プラズマを流出させることと、 該材料を該プラズマプルームに曝露させることであって、該材料の少なくとも1つの構成要素は、該エネルギー種と反応し、該材料の少なくとも1つの他の構成要素は、該高プラズマ密度の領域のうちの1つ以上によって物理的に衝撃を加えられ、移動させられる、ことと を包含する、方法。

IPC (1)：

H05H 1/24

FI (1)：

H05H1/24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• プラズマ薄膜堆積方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2006-540657   Applicant：アピトコープ.エス.アー.
• プラズマ処理装置およびそれを用いた加工方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-092789   Applicant：株式会社荏原製作所