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J-GLOBAL ID：201203075022049012

グラフェン/高分子積層体およびその利用

Inventor： 村上 睦明 ,  西川 泰司
Applicant, Patent owner： 株式会社カネカ
Agent (2)： 増井 義久 ,  比村 潤相
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011012162
Publication number (International publication number)：2012156202
Application date： Jan. 24, 2011
Publication date： Aug. 16, 2012
Summary：

【課題】効率的に、かつ低コストで、優れた物性値をもち、表面が平滑な、グラフェン/高分子積層体を製造する方法を提供する。【解決手段】金属基板上に形成された、グラフェンを複数層有する多層グラフェン10のうち少なくとも1層を、多層グラフェン10の層間で剥がして、高分子フィルム3に貼り付ける、グラフェン転写工程を含む。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

金属基板上に形成された、グラフェンを複数層有する多層グラフェンのうち少なくとも1層を、該多層グラフェンの層間で剥がして、高分子フィルムに貼り付ける、グラフェン転写工程 を含むことを特徴とするグラフェン/高分子積層体の製造方法。

IPC (3)：

H05K 1/09 ,  B32B 9/00 ,  H01B 5/14

FI (3)：

H05K1/09 A ,  B32B9/00 A ,  H01B5/14 A

F-Term (44)：

4E351AA02 ,  4E351BB01 ,  4E351BB50 ,  4E351CC17 ,  4E351DD01 ,  4E351DD29 ,  4E351GG20 ,  4F100AA17C ,  4F100AA20C ,  4F100AA22C ,  4F100AA23C ,  4F100AA24C ,  4F100AB01C ,  4F100AB02C ,  4F100AB11C ,  4F100AB13C ,  4F100AB16C ,  4F100AB17C ,  4F100AB31C ,  4F100AD11B ,  4F100AK01A ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100GB41 ,  4F100JL02 ,  4G146AA01 ,  4G146AA02 ,  4G146AB07 ,  4G146AD17 ,  4G146AD22 ,  4G146AD28 ,  4G146BA13 ,  4G146BB05 ,  4G146BC02 ,  4G146BC25 ,  4G146BC31A ,  4G146BC33A ,  4G146BC34A ,  4G146CB03 ,  4G146CB19 ,  5G307FB03 ,  5G307FC03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭60-194075
  
• グラフェン層の剥離方法、グラフェンウエハの製造方法、グラフェンウエハ、及び、グラフェン素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-148308   Applicant：株式会社沖データ, 株式会社沖デジタルイメージング

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Graphene synthesis by chemical vapor deposition and transfer by a roll-to-roll process