グラフェン層の剥離方法、グラフェンウエハの製造方法、グラフェンウエハ、及び、グラフェン素子の製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：磯野道造 , 伊藤政幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009148308
Publication number (International publication number)：2011006265
Application date： Jun. 23, 2009
Publication date： Jan. 13, 2011
Summary：

【課題】エピタキシャルグラフェン層を他の任意の基板上に再現性よく転写させるグラフェン層の剥離方法、グラフェンウエハの製造方法、グラフェンウエハ、及び、グラフェン素子の製造方法を提供する。【解決手段】グラフェン層の剥離方法において、第1の基板の表面にグラフェン層が形成される工程と、前記グラフェン層の表面に金属層が形成される工程と、前記第1の基板と前記金属層との間で張力が加えられ、前記グラフェン層が前記第1の基板から剥離される工程とを備える。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

第1の基板の表面にグラフェン層が形成される工程と、前記グラフェン層の表面に金属層が形成される工程と、前記第1の基板と前記金属層との間で張力が加えられ、前記グラフェン層が前記第1の基板から剥離される工程とを備えることを特徴とするグラフェン層の剥離方法。

IPC (5)：

C01B 31/04 , H01L 51/05 , H01L 51/30 , H01L 51/40 , H01L 29/786

FI (5)：

C01B31/04 101Z , H01L29/28 100A , H01L29/28 250E , H01L29/28 310E , H01L29/78 618B

F-Term (31)：

4G146AA02 , 4G146AB07 , 4G146AD30 , 4G146BA08 , 4G146BC03 , 4G146BC04 , 4G146BC25 , 4G146BC27 , 4G146CA02 , 4G146CA12 , 4G146CB01 , 4G146CB08 , 4G146CB12 , 4G146CB15 , 4G146CB17 , 4G146CB37 , 4G146CB38 , 5F110AA16 , 5F110AA26 , 5F110CC01 , 5F110CC07 , 5F110DD01 , 5F110DD05 , 5F110EE08 , 5F110EE14 , 5F110FF02 , 5F110FF23 , 5F110GG01 , 5F110GG42 , 5F110HK02 , 5F110QQ14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

グラフェンシートの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-233535 Applicant：国立大学法人福井大学
グラフェントランジスタ及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-040775 Applicant：富士通株式会社
グラフェン基板及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-039263 Applicant：株式会社デンソー

Show all

Return to Previous Page