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J-GLOBAL ID:201203078959775990
スピン伝導素子
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
, 三上 敬史
, 石坂 泰紀
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011009234
Publication number (International publication number):2012151307
Application date: Jan. 19, 2011
Publication date: Aug. 09, 2012
Summary:
【課題】 Hanle効果を利用可能なスピン伝導素子を提供する。【解決手段】 電子流源Eにより、第1強磁性層1と第1電極4との間に電子流が供給されると、半導体層3内を電子が流れると共に、スピンが拡散する。このスピン流は、第2強磁性層2方向にも流れ、スピンの磁化方向に依存して、第2強磁性層2内に吸収される。スピン伝導素子における第1配線8aに電流を供給すると、その周囲に磁場Bが発生するが、半導体層3Cをスピンが走行する領域内において、磁場Bが印加されると、磁場Bの影響を受けて、スピンの方向が変わる。したがって、この磁場Bを制御することで、第2強磁性層2内に吸収されるスピン量を制御することができる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
半導体層と、
前記半導体層上に第1トンネル障壁層を介して設けられた第1強磁性層と、
前記半導体層上に、前記第1強磁性層から離間し、第2トンネル障壁層を介して設けられた第2強磁性層と、
電流が供給されることにより、前記半導体層における、前記第1強磁性層と前記第2強磁性層との間に領域内に、磁場を発生させる第1配線と、
を備えることを特徴とするスピン伝導素子。
IPC (3):
H01L 29/82
, H01L 27/105
, H01L 21/824
FI (2):
H01L29/82 Z
, H01L27/10 447
F-Term (9):
4M119AA17
, 4M119BB20
, 4M119CC02
, 5F092AC21
, 5F092BD03
, 5F092BD04
, 5F092BD14
, 5F092BD15
, 5F092BD19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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スピン注入構造及びそれを用いたスピン伝導デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-086920
Applicant:TDK株式会社, 秋田県
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スピン伝導素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-152393
Applicant:TDK株式会社
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磁気再生ヘッド及び磁気記録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-202224
Applicant:株式会社日立製作所
Article cited by the Patent:
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